РИД
№ АААА-Г17-617042510032-7Конструкция мощного полупроводникового импульсного лазера для атмосферных лидаров, дальномеров, систем специального назначения
25.04.2017
ОКР посвящена разработке конструкции и технологии изготовления лазерных гетероструктур InGaAs/AlGaAs и туннельно-связанных лазерных гетероструктур InGaAs/AlGaAs методом газофазной эпитаксии из гидридов и металлорганических соединений и мощных полупроводниковых импульсных лазеров ближнего ИК диапазона на их основе.Целью работы являлось создание конструкций и технологий производства перспективных полупроводниковых гетероструктур и на их основе конкурентоспособных изделий оптоэлектроники нового поколения специального и двойного применения, в том числе импортозамещающих изделий.Разработана конструкция мощного полупроводникового импульсного лазера, обеспечивающая излучающую апертуру 100 мкм и снижение эффектов генерации замкнутой моды за счет введения антирезонаторных конструкций.
ГРНТИ
47.14.07 Проектирование и конструирование полупроводниковых приборов и приборов микроэлектроники
47.14.13 Проектирование и конструирование изделий электронной техники СВЧ-диапазона
47.14.17 Проектирование и конструирование радиоэлектронной аппаратуры
Ключевые слова
МОЩНЫЕ ИМПУЛЬСНЫЕ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЕ ЛАЗЕРЫ
ЛАЗЕРНЫЕ ДИОДЫ
Детали
Тип РИД
Секрет производства (ноу хау)
Ожидается
Заказчик
Исполнители
Публичное акционерное общество "Светлана"
Заказчик
МИНИСТЕРСТВО ПРОМЫШЛЕННОСТИ И ТОРГОВЛИ РОССИЙСКОЙ ФЕДЕРАЦИИ
Похожие документы
Технология изготовления мощного полупроводникового импульсного лазера для атмосферных лидаров, дальномеров, систем специального назначения
0.989
РИД
Технология изготовления лазерной гетероструктуры InGaAs/AlGaAs для мощных полупроводниковых импульсных лазеров ИК-диапазона
0.957
РИД
Конструкция лазерной туннельно-связанной гетероструктуры для мощных полупроводниковых импульсных лазеров ИК-диапазона
0.953
РИД
Технология изготовления лазерной туннельно-связанной гетероструктуры для мощных полупроводниковых импульсных лазеров ИК-диапазона
0.952
РИД
Конструкция лазерной гетероструктуры InGaAs/AlGaAs для мощных полупроводниковых импульсных лазеров ИК-диапазона
0.947
РИД
Конструкция мощного полупроводникового импульсного лазера на базе туннельно-связанных гетероструктур
0.945
РИД
Технология изготовления мощного полупроводникового импульсного лазера на базе туннельно-связанных гетероструктур
0.943
РИД
Технология изготовления лазерного модуля с волоконным выводом излучения для твердотельных лазеров с торцевой накачкой
0.937
РИД
Конструкция лазерного модуля с волоконным выводом излучения для твердотельных лазеров с торцевой накачкой
0.937
РИД
Разработка технологии изготовления мощных полупроводниковых лазеров с улучшенными характеристиками на основе полупроводниковых наногетероструктур для технологических применений и диодной накачки
0.937
ИКРБС