Способ изготовления высокоаспектных микроструктур.

Изобретение относится к микросистемной технике и технологии, а именно к изготовлению высокоаспектных микроструктур и может быть использовано для изготовления структурированных сцинтилляционных экранов. Способ изготовления высокоаспектных микроструктур включает в себя несколько этапов: на образце формируется шаблон с произвольной топологией, либо перед образцом размещается трафаретный шаблон; затем образец облучается корпускулярным ионизирующим излучением через шаблон. Материал и толщина шаблона обеспечивают полное поглощение падающего излучения. Температура образца поддерживается в диапазоне, который определяется свойствами материала образца. В незакрытых шаблоном областях происходит процесс радиационно-индуцированной абляции. Данный способ позволяет формировать высокоаспектные микроструктуры в кристаллах неорганических соединений, например, хлорид натрия и иодид цезия.