Устройство для травления полупроводниковых структур

Задача изобретения заключается в создании устройства для травления полупроводниковых структур в высокоплотной плазме индукционно связанного разряда. Технический результат изобретения заключается в повышении степени ионизации компонентов газовой смеси за счет вихревого движения по спирали потоков газа внутри колпака. При этом уменьшается расход газа и обеспечиваются условия работы при более низком рабочем давлении, что обеспечивает улучшение анизотропии травления канавок.