Магнетронное распылительное устройство

Изобретение относится устройствам ионно-плазменного распыления в скрещенных магнитном и электрических полях, и может быть использовано в качестве базового распылительного оборудования. Технический результат изобретения заключается в повышении эффективности использования оборудования в составе системы вакуумного распыления в магнетронах и установках катодного осаждения за счет повышения общего эксплуатационного ресурса мишени, а также в упрощении конструкции устройства и повышении надежности при эксплуатации. В магнетронном распылительном устройстве, содержащем мишень, являющуюся катодом тлеющего разряда, связанную с мишенью магнитную систему, вакуумную камеру, являющуюся анодом тлеющего разряда, и источник питания тлеющего разряда, соединенный отрицательным полюсом с мишенью, а положительным полюсом - с вакуумной камерой, магнитная система выполнена в виде прилегающего к мишени кольцевого магнита