Способ изготовления матрицы хеморезистивных сенсоров

Предложен способ изготовления матрицы хеморезистивных сенсоров с чувствительными слоями, сформированными электрофоретическим осаждением. На диэлектрическую подложку, фронтальная сторона которой покрыта слоем из благородного металла с топологическим рисунком в виде набора встречно-штыревых электродов, а обратная сторона меандровым нагревателем сформированных методом вакуум-термическим или магнетронным распылением осаждают поочередно слои TiO2, TiO2-CuOx, TiO2-УНТ, ZnO из суспензий на основе изопропанола, ацетона или их смеси с наночастицами таким образом, чтобы зазор между встречно-штыревыми электродами был заполнен. Технический результат: обеспечение возможности локального формирования чувствительных слоев сенсоров сложного состава на единой подложке, используя доступные нанопорошки.