РИД
№ 622053000070-3

Узел нагрева и позиционирования подложек

30.05.2022

Полезная модель относится к электротехнике и может быть использована при проектировании и изготовлении исследовательских установок осаждения функциональных тонкопленочных слоев различными методами ионно-плазменного распыления, термического, электроннолучевого и лазерного испарения. Технический результат состоит в возможности одновременного осаждения слоев в идентичных условиях на несколько подложек, находящихся при различной температуре. Поставленная цель достигается установкой на вращающуюся планшайбу УНПП нескольких держателей подложек со встроенными нагревателями, температура которых задается и поддерживается индивидуально. Предложенная конструкция дает возможность получения за один цикл осаждения полной информации о температурной зависимости скорости осаждения, структуры и функциональных характеристик осаждаемых слоев.
ГРНТИ
29.19.03 Теория конденсированного состояния
Ключевые слова
подложки
термическое
электроннолучевое и лазерное испарение
ионно-плазменное распыление
функциональные тонкопленочные слои
Детали

Тип РИД
Полезная модель
Сферы применения
Проектирование и изготовление исследовательских установок осаждения функциональных тонкопленочных слоев различными методами ионно-плазменного распыления, термического, электроннолучевого и лазерного испарения
Ожидается
Исполнитель
Исполнители
Институт физики им. Х.И. Амирханова - обособленное подразделение Федерального государственного бюджетного учреждения науки Дагестанского федерального исследовательского центра Российской академии наук
Заказчик
Федеральное агентство научных организаций