Способ вакуумно-плазменного осаждения тонкой пленки из оксинитрида фосфора лития

Изобретение относится к способу получения тонкой пленки из оксинитрида фосфора лития (LiPON) с высокой скоростью на электропроводящих подложках. Способ включает нагрев, испарение ортофосфата лития (Li3PO4), осаждение паров на поверхность подложек в азотной плазме разряда. Нагрев тигля осуществляют во вспомогательном разряде с прямонакальным термоэмиссионным катодом, плазма которого отделена экраном от паров Li3PO4. Скорость испарения Li3PO4 регулируют изменением мощности разряда. Концентрацию азотной плазмы регулируют независимо изменением тока основного разряда между самонакаливаемым полым катодом, через который напускают азот, и кольцевым анодом, установленными соосно с тиглем, причем анод располагают в области между тиглем и держателем образцов. Формирование LiPON на поверхности подложек достигают тем, что при заданной скорости испарения Li3PO4 устанавливают величину тока основного разряда и давления азота, при которых обеспечивается требуемая плотность азотной плазмы у поверхности растущей пленки. Осаждение пленки LiPON со скоростью ~0,25 мкм/ч, имеющей ионную проводимость ~2*10-6 (Ом*см)-1, достигают при скорости испарения Li3PO4 ~8*10-6 г/(см2*с), токах основного разряда 15-20 А, давлении азота (0,8-1,5)*10-2 Торр и плавающем потенциале подложек.