Способ полирования подложки пучком быстрых атомов

Изобретение относится к области обработки изделий ускоренными ионами или быстрыми атомами и предназначено для получения изделий с повышенными характеристиками за счет полирования поверхности пучком быстрых атомов. Технический результат – повышение производительности процесса полирования пучком быстрых атомов за счет увеличения скорости обработки путем одновременного осаждения покрытия во впадинах между выступами на поверхности подложки, распыляемыми быстрыми атомами с большим углом падения на поверхность подложки. Способ полирования подложки пучком быстрых атомов включает распыление подложки пучком быстрых атомов, падающих на поверхность подложки под углом падения α от 75° до 85°, вращение подложки вокруг оси, перпендикулярной ее поверхности, и одновременное с распылением и вращением подложки осаждение на последнюю покрытия посредством напыления вещества, из которого выполнена подложка, со скоростью напыления меньшей скорости распыления. На фиг. 1 показана схема устройства для полирования подложки быстрыми атомами с большим углом падения на ее поверхность. На фиг. 2 показана схема процесса распыления выступов на поверхности подложки пучком быстрых атомов с большим углом падения на поверхность с одновременным осаждением на нее покрытия.