РИД
№ 623013100355-3Программа моделирования воздействия электронного пучка на полимеры при различных температурах с учетом процессов деполимеризации
31.01.2023
Программа позволяет рассчитать параметры электронно-лучевой литографии с дальнейшей термической деполимеризацией полимера. В ходе работы программы используется математическое моделирование методом Монте-Карло для определения координат взаимодействий электронов с атомами полимера. Далее создается модель полимерных цепей на основе модели случайного блуждания, которая позволяет сопоставить взаимодействиям электронов с полимером конкретные фрагменты цепей. Процесс термической деполимеризации полимера моделируется на основе эмпирически полученных данных о количестве взаимодействий электронов определенной энергии с полимером и скорости выхода мономера при нагреве. Программа имеет клавиатурно-файловый интерфейс ввода данных, вывод результатов расчета производится в файлы формата .npy.
ГРНТИ
47.13.07 Технология и оборудование для производства приборов и устройств наноэлектроники
47.13.11 Технология и оборудование для производства полупроводниковых приборов и приборов микроэлектроники
47.13.33 Электронно-ионно-плазменные технологии электронного производства
Ключевые слова
электронная литография
деполимеризация
сухое электронно-лучевое травление резиста
Детали
Тип РИД
Программа для ЭВМ
Сферы применения
оценка влияния процессов взаимодействия электронного пучка с резистом при различных температурах на процесс электронной литографии
Ожидается
Исполнитель
Исполнители
Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Физико-технологический институт имени К.А.Валиева Российской академии наук
Заказчик
МИНИСТЕРСТВО НАУКИ И ВЫСШЕГО ОБРАЗОВАНИЯ РОССИЙСКОЙ ФЕДЕРАЦИИ
Похожие документы
Программа моделирования процессов экспонирования и проявления в электронно-лучевой литографии
0.932
РИД
Программа моделирования рассеяния электронного пучка в полимерных резистах с учетом генерации вторичных электронов
0.922
РИД
Программа моделирования электронно-стимулированной термической деполимеризации резиста
0.917
РИД
Программа моделирования рельефа, получаемого методом сухого электронно-лучевого травления резиста
0.892
РИД
Программа моделирования методом Монте-Карло траекторий электронов в твердом теле с учётом упругих соударений на кристаллической решетке
0.875
РИД
Программа численного моделирования процесса электроформовки в мемристорных структурах на основе оксида гафния
0.874
РИД
Компьютерное моделирование явлений электроформовки и резистивного переключения в мемристивной структуре на основе стабилизированного диоксида циркония
0.871
РИД
Моделирование растекания капель фотосшиваемого резиста в технологии пошагового наноимпринтинга при использовании штампов с нерегулярным рельефом
0.871
РИД
Программный компонент моделирования энергообмена и релаксации электронных состояний в массивах нанокристаллов по методу Монте-Карло с использованием графических ускорителей
0.869
РИД
Программа статистического моделирования процесса взаимодействия электронного пучка с многоапертурным коллектором
0.869
РИД