РИД
№ 623112100057-6Способ создания устойчивых к окислению сверхтонких графеновых структур со спин-поляризованными носителями заряда
21.11.2023
В изобретении приводится описание способа создания сверхтонких структур графена с атомами европия на поверхности кремния Si(001) посредством метода молекулярно-лучевой эпитаксии. Отличительной особенностью данных структур является устойчивость к деградации (окислению), что упрощает использование таковых в технологических процессах. Интеграция с магнитными атомами приводит к спиновой поляризации носителей заряда в графене, что позволяет использовать полученные структуры при создании ультракомпактных устройств спиновой электроники.
ГРНТИ
29.19.16 Физика тонких пленок. Поверхности и границы раздела
29.19.31 Полупроводники
29.19.39 Ферромагнетики
Ключевые слова
Спинтроника
кремний
графен
спиновая поляризация носителей заряда
европий
Детали
НИОКТР
Тип РИД
Изобретение
Сферы применения
Микро- и наноэлектроника, спинтроника
Ожидается
Исполнитель
Исполнители
ФЕДЕРАЛЬНОЕ ГОСУДАРСТВЕННОЕ БЮДЖЕТНОЕ УЧРЕЖДЕНИЕ "НАЦИОНАЛЬНЫЙ ИССЛЕДОВАТЕЛЬСКИЙ ЦЕНТР "КУРЧАТОВСКИЙ ИНСТИТУТ"
Заказчик
Правительство Российской Федерации
Похожие документы
Способ создания устойчивых к окислению сверхтонких графеновых структур со спин-поляризованными носителями заряда
1.000
РИД
Способ создания сверхтонких графеновых структур с высокой подвижностью спин-поляризованных носителей заряда
0.971
РИД
Способ получения спин-поляризованных носителей заряда в графене
0.946
РИД
Способ выращивания эпитаксиальных пленок монооксида европия на графене
0.931
РИД
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ТОНКИХ СЛОЕВ ОКСИДА ГРАФЕНА С ФОРМИРОВАНИЕМ ПОДСЛОЯ ИЗ УГЛЕРОДНЫХ НАНОТРУБОК
0.923
РИД
Способ создания материалов на основе германена EuGe2 и SrGe2 с высокой подвижностью носителей заряда
0.920
РИД
Способ создания гетероструктур на основе графена
0.916
РИД
Способ формирования электропроводящих слоев и структур различной конфигурации из чешуек восстановленного оксида графена (мультиграфена)
0.916
РИД
Способ формирования тонкой пленки монооксида европия на кремниевой подложке с получением эпитаксальной гетероструктуры EuO/Si
0.914
РИД
Пленочный гибридный материал и способ его получения
0.913
РИД