МИПРОМ

27.11.2023

Область применения: Технология осаждения металлических пленок. Программа поддерживает следующие основные функции: • Расчет скорости осаждения металлической пленки при магнетронном распылении • Расчет равномерности получаемой пленки • Вывод через графический интерфейс распределения толщины и равномерности получаемой пленки • Возможность через графический интерфейс варьировать физико-технологическими параметрами при магнетронном распылении

ГРНТИ

29.19.35 Сегнетоэлектрики и антисегнетоэлектрики

47.33.37 Приборы функциональной микроэлектроники

47.09.41 Стекла, ситаллы, керамика

31.15.19 Химия твердого тела

47.09.33 Сегнетоэлектрики и пьезоэлектрики

Ключевые слова

пористые силикатные стекла

функциональные керамические материалы

сегнетоэлектрики

магнетронное распыление

Детали

НИОКТР

№ 122120900031-9

Тип РИД

Программа для ЭВМ

Сферы применения

Программа предназначена для расчета толщины и равномерности металлической пленки при магнетронном распылении

Ожидается

Исполнитель

Исполнители

Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет “ЛЭТИ” им. В.И. Ульянова (Ленина)"

Заказчик

МИНИСТЕРСТВО НАУКИ И ВЫСШЕГО ОБРАЗОВАНИЯ РОССИЙСКОЙ ФЕДЕРАЦИИ

Похожие документы

Моделирование ионно-плазменного распыления и осаждения металлов и сегнетоэлектриков "МИПРОМС"

0.923

РИД