РИД
№ 623121400161-9Система прецизионного автоматического позиционирования подложек вакуумной установки магнетронного распыления
14.12.2023
Полезная модель относится к плазменной технике и предназначена для получения тонкопленочных покрытий с различными характеристиками на различных подложках. Полезная модель может быть использована в электронике, оптике, нанотехнологиях, машиностроении. Задачей разработанной полезной модели является автоматическое прецизионное позиционирование подложек с малым углом поворота в вакуумной камере магнетронной распылительной установки, для повышения точности напыления и возможности физического изменения текстуры и свойств тонких пленок за счет изменения угла наклона подложки относительно магнетрона. Указанный технический результат при реализации полезной модели достигается тем, что в установку магнетронного распыления, содержащей вакуумную камеру, магнетронную распылительную систему и распыляемую мишень установлен через вакуумный ввод, состоящий из вала, подшипников и уплотнительных сальников, привод шагового двигателя с редуктором, управляемый через драйвер шагового двигателя, особенностью является то, что драйвер шагового двигателя управляется с компьютера через промышленный помехозащищенный интерфейс Modbus RTU, при этом на компьютере выполняется программа, которая математически вычисляет текущее положение двигателя относительно нуля и дает управляющие команды драйверу шагового двигателя и позволяет пользователю через графический интерфейс программы задать любое положение выбранной подложки относительно выбранного магнетрона с высокой точностью. Предложенная система прецизионного автоматического позиционирования подложек позволяет с точностью 0,0055° позиционировать подложки и изменять угол наклона относительно магнетронов автоматически из окна программы.
ГРНТИ
47.13.07 Технология и оборудование для производства приборов и устройств наноэлектроники
Ключевые слова
Магнетронное распыление
Тонкие пленки
Позиционирование подложек
Детали
Тип РИД
Полезная модель
Сферы применения
Позиционирование подложек в процессе напыления тонких пленок методом магнетронного распыления
Ожидается
Исполнитель
Заказчик
ФЕДЕРАЛЬНОЕ ГОСУДАРСТВЕННОЕ БЮДЖЕТНОЕ УЧРЕЖДЕНИЕ "ФОНД СОДЕЙСТВИЯ РАЗВИТИЮ МАЛЫХ ФОРМ ПРЕДПРИЯТИЙ В НАУЧНО-ТЕХНИЧЕСКОЙ СФЕРЕ"
Похожие документы
Устройство для получения плёнок
0.912
РИД
Устройство для получения пленок
0.895
РИД
Устройство подвода энергоносителей к технологическому распылителю
0.893
РИД
Устройство с числовым программным управлением для нанесения заданных по толщине слоев материалов на поверхности подложек
0.892
РИД
Узел нагрева и позиционирования подложек
0.890
РИД
УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ РАВНОМЕРНЫХ ИЗНОСОСТОЙКИХ ПОКРЫТИЙ ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВЫМ СПОСОБОМ В ВАКУУМЕ НА РАБОЧИЕ ПОВЕРХНОСТИ СЛОЖНОПРОФИЛЬНЫХ ДЕТАЛЕЙ
0.889
РИД
Способ формирования прозрачных проводящих слоев
0.889
РИД
Устройство для смены прецизионных масок в вакууме
0.888
РИД
Устройство позиционирования распыляющей системы
0.888
РИД
Установка магнетронного напыления покрытий на движущуюся тонкую металлическую проволоку или оптоволокно
(Регистрация заявки на изобретение № 2024110145 от 15.04.2024 г.)
0.885
РИД