Устройство для намагничивания тонкопленочных покрытий в вакууме

Полезная модель относится к области спинтроники и наноэлектроники и может быть использована для намагничивания тонкопленочных покрытий в технологическом цикле производства полупроводниковой элементной базы для портативных приборов. Устройство состоит из вакуумной камеры, системы откачки и контроля давления, шлюзового вентиля, смотрового окна, устройства захвата подложки, устройства нагрева и намагничивающих катушек с управляющим блоком. При достижении давления в вакуумной камере от 10-8 до 10-10 мбар шлюзовой вентиль открывается и в центр камеры вносится подложка. Подложка захватывается устройством захвата, после чего шлюзовой вентиль закрывается, изолируя объем вакуумной камеры от остальной вакуумной системы. Для намагничивания подложки в поперечном направлении ее поворачивают устройством захвата так, чтобы она была параллельна плоскости намагничивающих катушек, и вдвигают в центр вакуумной камеры. Затем в центр вакуумной камеры вдвигаются намагничивающие катушки. По окончании процесса намагничивания катушки отводят к стенке вакуумной камеры. Для намагничивания подложки в продольном направлении её сначала с помощью устройства захвата фиксируют на поверхности устройства нагрева, предварительно вдвинутого в центр внутрь вакуумной камеры. Затем в центр вакуумной камеры вдвигаются намагничивающие катушки. После намагничивания подложки катушки, устройство захвата, с предварительно снятой подложкой с устройства нагрева, и устройство нагрева отводят из центра вакуумной камеры к краям. По окончании процесса намагничивания, шлюзовой вентиль открывается, и подложку забирают из устройства захвата в основную вакуумную систему для дальнейшей работы с ней, а шлюзовой вентиль закрывают. Намагничивание тонкопленочного покрытия в вакууме в продольном и поперечном направлении достигается за счет использования соосно размещенных внутри вакуумной камеры намагничивающих катушек с возможностью линейного перемещения и устройства захвата подложки, выполненного в виде подвижного штока, с возможностью линейного перемещения вдоль своей оси и вращения вокруг нее на 360°. Совмещение процесса намагничивания тонкопленочного покрытия в вакууме в продольном и поперечном направлении с высокотемпературным нагревом в одном технологическом цикле достигается за счет расположения под углом 90° намагничивающих катушек и устройства нагрева, обладающего возможностью линейного перемещения вдоль своей оси и вращения вокруг нее на 360°.