Применение полисульфона марки ПСК в качестве УФ-абсорбера в фотополимеризующихся композициях для 3D-печати

Изобретение относится к технологии формирования полимерных изделий по аддитивному принципу с высокой детализацией и может быть использовано при получении фотополимеризующихся композиций (ФПК) для 3D-печати, базирующихся на воздействии УФ-излучения на реакционноспособную композицию. Технический результат достигается при применении полисульфона марки ПСК в качестве УФ-абсорбера в фотополимеризующихся композициях для 3D-печати. Технический результат – высокомолекулярный немигрирующий не окрашивающий УФ-абсорбер, одновременно выступающий в роли модификатора свойств получаемых материалов.