Способ формирования волноводных, пространственно-неоднородных и дифракционных структур в приповерхностных областях электрооптических кристаллов

Изобретение относится к области оптоэлектроники и может быть использовано при изготовлении интегрально-оптических элементов, устройств и приборов фотоники на основе волноводных, пространственно-неоднородных и дифракционных структур в электрооптических кристаллах. Техническим результатом заявляемого изобретения является формирование различных топологий регулярных и нерегулярных волноводных структур, пространственно-неоднородных и дифракционных структур путем изменения показателя преломления в приповерхностных областях легированных фоторефрактивными примесями электрооптических кристаллов непрерывным или импульсным лазерным излучением; возможность реконфигурации сформированных структур когерентным или некогерентным оптическим излучением; возможность увеличения или уменьшения показателя преломления путем воздействия фокусированного светового поля на локальную область; формирование дифракционных структур фокусированным или коллимированным световым полем; возможность частичного или полного стирания сформированных структур в приповерхностных областях электрооптических кристаллов воздействием светового или температурного поля.