РИД
№ 624122600384-6

Программа для кинетического моделирования формирования наноструктур In/GaAs(001) методом капельной эпитаксии

26.12.2024

Реализованная в программе модель позволяет учесть семь уровней связей атомов и энергию взаимодействия на основе потенциала Ланнарда-Джонса, критический размер зародышей, а также плотность упаковки атомов в формируемых кластерах. Функциональные возможности программы включают оценку концентрации центров зарождения островков и интенсивности нуклеации, расчет геометрических характеристик наноструктур и диффузионных параметров атомов на поверхности в широком диапазоне технологических параметров, а также на большом пространственном и временном масштабе.
ГРНТИ
45.09.35 Полупроводниковые материалы
29.29.41 Взаимодействие атомов и молекул со средой
Ключевые слова
молекулярно-лучевая эпитаксия
индий
наноструктуры
Детали

НИОКТР
№ АААА-А15-115121110033-7
Тип РИД
Программа для ЭВМ
Сферы применения
Программа предназначена для проведения вычислительных экспериментов по капельной эпитаксии индия с помощью кинетического метода Монте-Карло. Область применения: молекулярно-лучевая эпитаксия наноструктур InAs/GaAs
Ожидается
Исполнитель
Исполнители
Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Южный федеральный университет"
Заказчик
Российский научный фонд
Похожие документы
Кинетическое моделирование физических процессов при росте наноструктур In/AlGaAs методом капельной эпитаксии на подложках, модифицированных участками прямоугольной формы
0.966
РИД
Программа для моделирования процессов формирования наноструктур In/AlGaAs(001) методом капельной эпитаксии
0.962
РИД
Программа для моделирования роста наноструктур индия методом капельной эпитаксии на подложке GaAs с углублениями полусферической формы
0.960
РИД
Моделирование процессов формирования массивов наноструктур In/GaAs с низкой поверхностной плотностью методом капельной эпитаксии на структурированных поверхностных слоях
0.941
РИД
Программа для моделирования процессов роста на подложке с прямоугольными углублениями при капельной эпитаксии In/GaAs(001)
0.940
РИД
Программа для моделирования эпитаксиального роста наноструктур In на подложке GaAs(001) с модифицированными участками треугольной формы
0.936
РИД
Программа для моделирования процессов формирования нанокапель In на подложках, модифицированных треугольными углублениями, с учетом влияния доли атомов Al в эпитаксиальном слое
0.933
РИД
Моделирование процессов капельной эпитаксии наноструктур In/GaAs на подложке с модифицированными участками трапециевидной формы
0.930
РИД
Гибридная модель синтеза упорядоченных наноструктур In/AlGaAs на комплексных поверхностях с различной огранкой
0.929
РИД
Программа для моделирования процессов автоэпитаксиального роста GaAs/GaAs(111)A методом Монте-Карло
0.911
РИД