«РКД на устройство крепления подложки в вакуумной камере CVD-реактора»

Рабочая конструкторская документация на сборку и детали для изготовления устройства крепления подложки в вакуумной камере CVD-реактора. Устройство обеспечивает равномерное распределение температуры в подложке и алмазном монокристалле в процессе CVD-синтеза монокристаллов алмаза толщиной свыше 500 мкм. Устройство крепления подложки в вакуумной камере CVD-реактора содержит молибденовое кольцо (Mo-кольцо), молибденовый подложкодержатель (Мо-подложкодержатель), поликристаллическую алмазную рамку с отверстием для алмазной подложки. Mo-Кольцо является усовершенствованной модификацией ранее разработанного производителем CVD-реактора изделия. Преимущество усовершенствованной конструкции изделия заключается в снижении теплового контакта между внутренним обводом кольца и медным пьедесталом при сохранении габаритных размеров и формы внешней поверхности, что обеспечивает нагрев внутреннего обвода до больших температур. За счет использования поликристаллической алмазной рамки с запечатанной в нее алмазной подложкой достигается практически полное прекращение теплопередачи от подложки, непосредственно на которой производится гомоэпитаксия, в подложкодержатель, что обеспечивает однородность распределения температуры, как по горизонтали, так и по вертикали в процессе длительного сеанса CVD-синтеза, и как следствие позволяет добиться высокого кристаллического совершенства синтезируемых алмазных монокристаллов. Использование описанных конструктивных элементов в совокупности позволит добиться более длительных и стабильных режимов CVD-синтеза с равномерным распределением температуры подложки.