РИД
№ 625122900162-6Составная мишень для осаждения текстурированного оксидного буферного слоя YSZ для ВТСП проводов
29.12.2025
Использование данного ноу-хау при производстве ВТСП-2 проводов, позволяет уменьшить на 10-20 % прямые затраты на изготовление ленты подложки с текстурированным оксидным буферным слоем YSZ за счет увеличения коэффициента использования мишени и уменьшения затрат на закупку исходных материалов сложного состава ZrY. .
Ноу-хау позволяет снизить затраты на дорогостоящие мишени смешанного состава ZrY. без снижения качества, изготавливаемых текстурированных оксидных буферных слоев YSZ для ВТСП-2 проводов. Наибольшая эффективность достигается для вакуумных систем ионно-лучевого распыления системы ABAD с эллиптическим или круглым профилем пучка на поверхности мишени.
Возможное применение в технологическом процессе вакуумного напыления ABAD, в технологических процессах относящихся к производству ВТСП-2 проводов, анодов твердооксидных топливных элементов, жаростойких тепловых экранов и при проектировании вакуумных напылительных систем.
ГРНТИ
29.19.29 Сверхпроводники
55.22.23 Неметаллические покрытия
55.22.19 Металлические покрытия
Ключевые слова
Буферный слой YSZ
мишень ZrY
вакуумное напыление
Детали
НИОКТР
Тип РИД
Секрет производства (ноу хау)
Сферы применения
Прикладная сверхпроводимость, прикладная физика, изготовление магнитных систем
Ожидается
Исполнитель
Исполнители
ФЕДЕРАЛЬНОЕ ГОСУДАРСТВЕННОЕ БЮДЖЕТНОЕ УЧРЕЖДЕНИЕ "НАЦИОНАЛЬНЫЙ ИССЛЕДОВАТЕЛЬСКИЙ ЦЕНТР "КУРЧАТОВСКИЙ ИНСТИТУТ"
Заказчик
Правительство Российской Федерации
Похожие документы
Методика изменения штатной технологии вакуумного напыления ABAD с целью увеличения скорости роста текстуры и скорости осаждения текстурированного буферного слоя, при уменьшении сопутствующих загрязнений буферного слоя
0.907
РИД
Способ формирования теплозащитных покрытий на основе YSZ керамики в форвакуумной области давлений
0.880
РИД
Конструкция фиксирующей пружины для ленты подложки при осаждении буферного и сверхпроводящего слоев на установке импульсного лазерного осаждения
0.880
РИД
Оптимизация химического и фазового составов мишеней, повышение их гомогенности и стойкости к воздействию лазерного луча (этап 3, заключительный)
0.879
ИКРБС
Система формирование теплозащитных покрытий на основе YSZ керамики в форвакуумной области давлений
0.879
РИД
Разработка и создание высокопроизводительной опытно-промышленной технологии получения ВТСП слоя Y(Gd)BaCuO с высокой токонесущей способностью методом направленной кристаллизации аморфных покрытий (этап 1, промежуточный)
0.878
ИКРБС
Разработка и создание высокопроизводительной опытно-промышленной технологии получения ВТСП слоя Y(Gd)BaCuO с высокой токонесущей способностью методом направленной кристаллизации аморфных покрытий (этап 3, заключительный)
0.875
ИКРБС
Разработка и создание высокопроизводительной опытно-промышленной технологии получения ВТСП слоя Y(Gd)BaCuO с высокой токонесущей способностью методом направленной кристаллизации аморфных покрытий (этап 2, промежуточный)
0.875
ИКРБС
Способ электрофоретического осаждения оксидных покрытий на пористые керметные непроводящие подложки
0.874
РИД
Разработка эффективных процессов МСО для барьерных и верхушечных эпитаксиальных слоев буфера в архитектуре ВТСП-2 проводов
0.873
ИКРБС