Разработка технологии жидкофазного нанесения эпитаксиальных буферных слоев токонесущего элемента ВТСП-2 провода с использованием метода магнитной структурной обработки. Обобщение результатов ПНИ

Цель: построение теоретической модели зародышеобразования и роста эпитаксиальной пленки в методе PAND, обобщение результатов ПНИ и подготовка предложений и рекомендаций по их коммерциализации, а также разработка проекта технического задания на ОТР по теме «Разработка недорогой эффективной технологии производства токонесущего элемента ВТСП-2 провода», включая технические требования и предложения по разработке, производству и эксплуатации продукции с учетом технологических возможностей и особенностей индустриального партнера, разработка бизнес-плана на создание производства недорогих ВТСП-2 проводов по разработанной технологии. Построена теоретическая модель зародышеобразования и роста эпитаксиальной пленки в методе PAND. Обобщены результаты ПНИ, и подготовлены предложения и рекомендации по их коммерциализации. Приведен проект технического задания на ОТР по указанной теме, включающий технические требования и предложения по разработке, производству и эксплуатации продукции с учетом технологических возможностей и особенностей индустриального партнера. Предложен бизнес-план по созданию производства недорогих ВТСП-2 проводов по разработанной технологии.