Пористые матрицы на основе оксидов металлов для устройств оптоэлектроники и разработка методик их анализа

Объектом исследования являются оптически прозрачные материалы системы SiO2 – SnO2 – ZnO. Работа направлена на формирование комплексного подхода к анализу пористой структуры металлооксидных материалов, формируемых в процессе золь-гель синтеза, используемых в качестве матриц для функциональных слоев устройств оптоэлектроники. Предлагается комбинированная методика, основанная на сочетании фрактального анализа на основе данных, полученных сорбционным методом, с использованием термодинамического подхода, и мультифрактального анализа изображений атомно-силовой микроскопии. Предусмотрено исследование электрофизических свойств металлооксидных слоев при вариации газов-индикаторов. Такой подход позволит выработать критерии для численного описания и сравнения подобных материалов