Исследование и разработка импульсных плазменных источников высокой плотности для получения ионных и электронных пучков

Источником сильноточных пучков заряженных частиц традиционно выступает взрывоэмиссионная плазма, обеспечивающая высокую плотность плазмы у границ эмиссионной поверхности. К недостаткам взрывоэмиссионных источников плазмы относят ограничение ресурса (расход материала) электродов, неоднородность плазмообразования при большой площади эмиссионной поверхности и изменение характеристик пучков заряженных частиц при большом числе импульсов. Изменение характеристик приводит к рассогласованию системы генерации, снижая общий кпд генерирующей установки. Данных недостатков лишены системы с газонаполненными плазменными источниками, однако они обеспечивают плотность плазмы на низком уровне, ограничивая круг возможных применений. Возникновение нестабильностей и неоднородностей существенно ограничивает возможности практического применения, тем самым повышая значимость и актуальность разработки и исследования альтернативных импульсных источников плазмы для генерации пучков заряженных частиц. Одним из перспективных способов создания плазмы требуемой плотности является поверхностный разряд. Инициация разряда осуществляется поджигающим импульсом малой мощности, затем подается основной импульс. Применение маломощного импульса для создания плазмы значительно уменьшает расход материала электродов, что приведет к увеличению ресурса эмиттера. Возможность формирования отдельных эмиссионных центров позволит создать эмиттеры модульной конструкции с изменяемой площадью.