Разработка технологий лазерной фабрикации микроконтактов и платформ для оптоэлектронных устройств при использовании прекурсоров нового типа на основе глубоких эвтектических растворителей

Проект направлен на создание аддитивных, высокопроизводительных и экономически рациональных методик локальной металлизации диэлектриков. Данная проблема будет решаться с помощью метода лазерно-индуцированного осаждения металлов с использованием глубоких эвтектических растворителей. В рамках проекта будет существенно расширена область применимости лазерной металлизации, так разрабатываемые подходы позволят не только осуществлять синтез на поверхности диэлектриков, но и создавать устойчивый металлический контакт между углеродными нанотрубками/файберами с проводящими материалами. Прикладная значимость результатов проекта связана с возможностью развития бесшаблонного метода создания полупрозрачных электродов для различных нужд промышленности. В особенности данный метод решает задачу прототипирования, когда не нужно создавать большой тираж однотипных архитектур и параметры требуется менять по ходу разработки и исследования. По предварительным оценкам использование разрабатываемой технологии позволит снизить время и стоимость производства в несколько раз по сравнению с традиционными методам фотолитографии. Достижение заявленных экспериментальных результатов откроет возможность промышленного применения метода лазерно-индуцированного осаждения металлов из раствора при создании высокотехнологичных устройств в различных сферах.