»
»
Промышленная инновация: Загрузка...
Промышленная инновация
№ 54-031-17

Трансформаторный плазмотрон низкого давления

04.12.2017

Изобретение относится к плазменной технике, а именно к трансформаторным плазмотронам низкого давления, и может быть использовано в микроэлектронике для обработки полупроводниковых материалов (плазменное травление, оксидирование, очистка поверхности и т.д.), осаждения тонких пленок, в металлообработке для плазмохимического модифицирования поверхности металлов (ионно-плазменное азотирование, плазменное оксидирование и т.д.), для плазменной обработки полимерных материалов (уменьшение пористости, изменение гидрофобных свойств и т.д.). 1. Трансформаторный плазматрон низкого давления для ионно-плазменной обработки поверхности материалов, содержащий замкнутую газоразрядную камеру с охватывающими ее часть магнитопроводами с первичными обмотками, держатель для фиксирования обрабатываемого материала, источник питания, отличающийся тем, что газоразрядная камера выполнена в виде рабочей камеры для размещения обрабатываемого материала с одним или более герметично закрываемыми отверстиями для ввода обрабатываемого материала и одной или более одинаковыми П-образными камерами, каждая из которых выполнена в виде трубы П-образной формы с диаметром, меньшим диаметра рабочей камеры, и длиной, меньшей либо равной длине рабочей камеры, и установлена так, что рабочая и П-образная камеры вместе образуют замкнутый путь для тока газового разряда, причем магнитопроводы с первичными обмотками выполнены разборными, а П-образные камеры расположены симметрично относительно оси рабочей камеры. 2. Трансформаторный плазматрон по п.1, отличающийся тем, что рабочая камера выполнена из электроизолированных одна от другой металлических секций. 3. Трансформаторный плазматрон по п.1, отличающийся тем, что рабочая камера выполнена из диэлектрического материала, а внутри нее установлена пластина из электропроводного материала. 4. Трансформаторный плазматрон по п.1, отличающийся тем, что П-образная камера выполнена из электроизолированных одна от другой металлических секций. 5. Трансформаторный плазматрон по п.1, отличающийся тем, что П-образная камера выполнена из диэлектрического материала.
ГРНТИ
45.43.41 Электропечи и установки плазменного нагрева
Детали

Отрасль ТЭК
Не указано
Критически значимая технология
4 технологический уклад
Инновационность
отсутствует
Эффект от внедрения
Существенное увеличение скорости и качества процесса,
Филиал РЭА
Новосибирский ЦНТИ-филиал
Владелец
ИТ СО РАН