Плазмохимический реактор низкого давления, обеспечивающий плазму высокой плотностидля осуществления процесса в виде травления и осаждения

Сущность изобретения заключается в том, что в плазмохимическом реакторе низкого давления, обеспечивающим плазму высокой плотности для осуществления процесса в виде травления или осаждения, содержащим рабочую камеру и сопряженный с ней модуль формирования плазмы, при этом в рабочей камере напротив модуля формирования плазмы расположен подложкодержатель с обрабатываемой пластиной, соединенный с ВЧ генератором и сопряженный со стабилизатором температуры, внутри рабочей камеры пространственно отдаленно на расстояние 3-10 мм от ее боковой стенки на клиньях установлено диэлектрическое кольцо, на внешней стороне которого сформирован проводящий металлический элемент, соединенный с источником постоянного напряжения, при этом проводящий металлический элемент диэлектрического кольца и подводящие к нему постоянное напряжение провода, электрически изолированы от плазмы и заземленных поверхностей рабочей камеры.