СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ ПЛЕНКИ ОКСИДА ГРАФЕНА ЦЕНТРОБЕЖНЫМ НАНЕСЕНИЕМ ИЗ ДВУХКОМПОНЕНТНОЙ ДИСПЕРСИОННОЙ СРЕДЫ

Изобретение относится к нанотехнологии, а способам формирования тонких пленок оксида графена за счет центробежного нанесения из раствора с целью получения заданной толщины пленки с равномерным покрытием всей подложки. Способ формирования пленки оксида графена центробежным нанесением из двухкомпонентной дисперсионной среды включает подготовку дисперсии оксида графена в смеси воды и н-метилпирролидона в оптимальном соотношении с дальнейшим нанесением на подложку полиэтилентерефталата или полиэтиленнафталата методом центрифугирования с дальнейшим удалением остатков растворителя путем нагрева в атмосфере воздуха или азота. Соотношение компонентов дисперсионной среды подбирается таким образом, чтобы с одной стороны сформировать сплошную на микроуровне пленку, а с другой – обеспечить полное и равномерное покрытие подложки на макроуровне. Изобретение позволяет формировать сплошные пленки оксида графена на поверхности полимерных подложек полиэтилентерефталата или полиэтиленнафталата, что можно использовать в качестве основы для создания устройств гибкой и органической электроники, фотовольтаики и сенсорной техники. Также изобретение позволяет формировать островковые пленки оксида графена, что может быть использовано в качестве платформ для адресной доставки лекарств. Задача, на решение которой направлено заявляемое изобретение состоит в формировании тонкой равномерной непрерывной или островковой пленки оксида графена на полимерной подложке с применением метода нанесения центрифугированием. Нанесение центрифугированием по сравнению с большинством других методик (капельное нанесение, окунание, струйная печать, трафаретная печать, аэрозольное нанесение) формирования пленок позволяет с одной стороны обеспечить значительно большую равномерность пленки, в том числе на макроуровне, а с другой – при высокой равномерности обеспечить производительность процесса, достаточную для серийного выпуска изделий. Технический результат заключается в обеспечении малой толщины сплошной пленки оксида графена при равномерности данной пленки на макроуровне. Подложка с пленкой оксида графена представляет собой платформу для дальнейшего формирования устройств гибкой и органической электроники и сенсорной техники. 5 з.п. формулы, 3 ил.