Способ получения наноструктурированных термоэлектрических материалов

23.10.2023

Изобретение относится к термоэлектрическому приборостроению и может быть использовано для изготовления материалов в производстве термоэлементов. Технический результат достигается измельчением термоэлектрического материала и проведением искрового плазменного спекания.

ГРНТИ

47.09.29 Полупроводниковые материалы

53.41.39 Получение полупроводниковых твердых растворов

47.13.11 Технология и оборудование для производства полупроводниковых приборов и приборов микроэлектроники

Ключевые слова

термоэлектрическая добротность

искровое плазменное спекание

синтез

термоэлектрические материалы

Детали

НИОКТР

№ АААА-А20-120071090027-3

Тип РИД

Изобретение

Сферы применения

Изобретение относится к термоэлектрическому приборостроению и может быть использовано для изготовления материалов в производстве термоэлементов.

Ожидается

Исполнитель

Исполнители

Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский университет "Московский институт электронной техники"

Заказчик

Российский научный фонд

Похожие документы

Технология создания наноструктурированных термоэлектрических материалов методом искрового плазменного спекания в градиентном температурном поле

0.935

РИД

Способ получения термоэлектрического композита системы Bi2Te3-Ni с локально-градиентными включениями.

0.921

РИД

Способ получения стабильных аморфных термоэлектрических материалов

0.917

РИД