Устройство для плазмохимической обработки внутренней полости однопараметрических поверхностей второго порядка

Изобретение относится к области электроэрозионной обработки и может быть использовано в производстве изделий из кварцевого стекла. Технический результат достигается за счет того, что внутренняя полость однопараметрической поверхности второго порядка, например, трубы из кварцевого стекла подвергается обработке высокотемпературной плазмой дугового разряда в атмосфере инертного газа аргона. Разность химических потенциалов гидроксильных групп в кварцевом стекле и в атмосфере воздуха при высоких температурах дугового разряда приводит к удалению водородсодержащей примеси в окружающее пространство вдоль всей образующей цилиндра по мере продвижения трубы относительно дугового разряда по типу зонной плавки. Однородность и равномерность радиального воздействия плазмы достигается за счет влияния магнитного поля двух соленоидов, размещенных коаксиально электродам и включенных последовательно в высокочастотную электрическую цепь синфазно друг другу.