Механизмы воздействия радикалов и ионов низкотемпературной плазмы на наноструктурированные материалы

Цель: исследование механизмов воздействия нейтральных атомов и ионов низкотемпературной плазмы на 1D- и 2D-наноструктуры (монослои и нанотрубки на основе углерода, нитрида бора, дисульфида молибдена и вольфрама) и наноструктурированные материалы - нанопористые low k-диэлектрики, используемые в качестве межслойных изоляторов интегральных микросхем, и полимерные нанокомпозиты, которые могут применяться в космической технике как многофункциональные материалы, обладающие повышенной стойкостью к воздействию внешней среды. С использованием методов многомасштабного моделирования исследовано влияние кривизны поверхности нанотрубок на процессы адсорбции, описаны предложенные многоступенчатые механизмы взаимодействия тепловых атомов F и N c low-k-диэлектриками, выявлен механизм запечатывания приповерхностных пор в нанопористых материалах под действием ионов низкой энергии, проанализировано влияние степени диспергирования на стойкость полимерных нанокомпозитов к воздействию кислородной плазмы. Результаты могут быть использованы при оптимизации существующих и разработке новых технологий создания, плазменной модификации и травления рассматриваемых наноструктурированных материалов, а также разработке методов повышения стойкости этих материалов к воздействию низкотемпературной плазмы.