Суперкомпьютерное моделирование свойств материалов тонких пленок для оптических и лазерных технологий

Актуальность проблемы обусловлена широким применением многослойных покрытий в разнообразных оптических и оптоэлектронных устройствах от офтальмологических линз до колпаков современных истребителей, в устройствах лазерной техники, в высокочувствительных датчиках гравитационных волн, гироскопах и т.д. Покрытия должны обладать определенными свойствами: низким уровнем напряжений, возникающих при изготовлении пленок и их последующей обработке, низкими механическими потерями, заданными коэффициентами пропускания и отражения, высоким значением интенсивности лазерного излучения, при котором начинается деградация структуры. Развитие технологий суперкомпьютерных расчетов открывает возможности для предсказательного моделирования зависимостей структурных, механических и оптических характеристик тонких пленок от технологических условий их изготовления. Научная значимость решения проблемы заключается в том, что разрабатываемый комплекс атомистических моделей позволит осуществить такое моделирование, и на его основе прогнозировать изменения свойств тонких пленок в зависимости от технологических параметров.