Тонкие пленки и нанокомпозиты на основе органической матрицы, осаждаемые из газовой фазы

В современном мире органо-неогранические наноразмерные пленочные структуры вызывают особый интерес в связи с их широким эффективным использованием в практике приложений к которым можно отнести как использование в виде активных слоистых структур в элементах микроэлектромеханических систем (МЭМС), дисплеях, в качестве электрооптических и просветляющих покрытий, активных элементов сенсоров, антибактериальных покрытий в биомедицине, а также в использовании технологии модификации (аппретировании и окрашивании) органических полимерных материалов, тканей, волокон и др. В ближайшее время можно ожидать разработку новых перспективных частных технологий формирования нанокомпозиционных функциональных систем с различной архитектурой и составом ингредиентов, например для абсолютно прозрачных оптических функциональных и защитных нанокомпозитных покрытий. Настоящий проект направлен на создание перспективных методов и моделей характеризации физических параметров тонкопленочных и нанокомпозиционных материалов и многослойных гетероструктур на их основе, в том числе на исследование процессов формирования пленочных покрытий заданного состава и свойств для развития новых эффективных технологий. В частности, предполагается создание управляемой технологии, способной формировать пленочные покрытия с заданными свойствами. На основании этого предполагается провести исследование механизмов формирования пленочных покрытий на основе полимерной матрицы с учетом влияния ряда технологических факторов на параметры осаждаемых на подложку покрытий, таких как температура, энергии электронов и ионов обработки, внешних электрических и магнитных полей. Изучениеструктурных и поверхностных морфологических характеристик покрытий в зависимости от условий их формирования позволят выявить механизмы изменения физических параметров получаемых пленок, а также механизмы изменения электрческих свойств пленок (электропроводности, диэлектрических потерь, электретных свойств). Для оптимизации технологического процесса формирования покрытий будет разработана адекватная физическая модель воздействияэлектронной обработки на получаемые покрытия. Полученные в работе теоретические и экспериментальные данные будут использованы при разработке нового поколения устройств микро- и наноэлектроники.