ИКРБС
№ 224040100051-3

Исследование влияния диффузионных процессов в AlAs/GaAs резонансно-туннельных гетероструктурах на электрические характеристики и надежность устройств для нелинейных преобразований частоты радиосигналов на их основе

13.12.2023

В течение отчетного периода была разработана математическая модель диффузии легирующей примеси в спейсерных слоях гетероструктур нелинейных элементов (НЭ), дополняющая разработанную в течение предыдущего отчетного периода математическую модель НЭ на основе AlAs/GaAs резонансно-туннельных гетероструктур (РТГС). Посредством компьютерного эксперимента коллективом исследована глубина проникновения легирующей примеси в спейсерные слои НЭ и дана оценка величины размытия гетерограниц слоев РТГС в условиях воздействия температурного фактора на этапе изготовления. В результате исследования влияния воздействия температурного фактора на этапе эксплуатации на распределение легирующей примеси в слоях гетероструктуры НЭ и размытие гетерограниц слоев РТГС установлено, что воздействие температуры 125 ºС в течение 200 000 ч не оказывает влияния на распределение легирующей примеси в слоях гетероструктуры и не приводит к размытию гетерограниц между слоями РТГС НЭ, что позволяет заключить, что деградация электрических параметров НЭ обусловлена ростом последовательного сопротивления потерь, вызванного диффузионными процессами, протекающими в омических контактах НЭ, а процессы диффузии In, Al и легирующей примеси в слоях гетероструктуры НЭ вносят значительный вклад в формирование электрических характеристик НЭ на этапе изготовления. На основе математической модели НЭ разработан алгоритм конструкторско-технологической (К-Т) оптимизации формы ВАХ НЭ, позволяющий осуществлять целенаправленный выбор параметров конструкции НЭ для обеспечения требуемой формы ВАХ с учетом допусков на значения паразитных параметров элемента. Разработанный алгоритм основан на методе покоординатного спуска, для повышения эффективности которого в алгоритм введен этап оценки влияния варьирования параметров конструкции на скорость приближения целевой функции к оптимальной, позволяющий на каждой итерации выбрать наиболее значимый параметр, варьирование которого обеспечивает наискорейшее приближение к оптимуму. Целевой функцией (ЦФ) является степень отклонения формы ВАХ НЭ от требуемой, выраженная в виде нормированной площади между требуемой ВАХ. Проведена апробация усовершенствованного алгоритма К-Т оптимизации формы ВАХ НЭ на основе AlAs/GaAs РТГС на НЭ различных УНПЧ. Показано, что помимо решения задачи повышения надежности УНПЧ с НЭ на основе AlAs/GaAs РТГС алгоритм К-Т оптимизации формы ВАХ НЭ может использоваться в решении задач обеспечения технологичности изделий: посредством данного алгоритма для балансного (БС) смесителя частот радиосигналов синтезировано конструкторско-технологическое исполнение НЭ, использование которых в БС позволяет повысить технологический выход годных изделий на 26%.
ГРНТИ
47.14.23 Оценивание и обеспечение надежности радиоэлектронной аппаратуры
47.14.13 Проектирование и конструирование изделий электронной техники СВЧ-диапазона
47.14.07 Проектирование и конструирование полупроводниковых приборов и приборов микроэлектроники
Ключевые слова
Резонансно-туннельные наногетероструктуры
Деградационные процессы
Поперечный токоперенос
Нелинейные преобразователи частоты
Надежность
Детали

НИОКТР
Заказчик
Российский научный фонд
Исполнитель
ФЕДЕРАЛЬНОЕ ГОСУДАРСТВЕННОЕ БЮДЖЕТНОЕ ОБРАЗОВАТЕЛЬНОЕ УЧРЕЖДЕНИЕ ВЫСШЕГО ОБРАЗОВАНИЯ "МОСКОВСКИЙ ГОСУДАРСТВЕННЫЙ ТЕХНИЧЕСКИЙ УНИВЕРСИТЕТ ИМЕНИ Н.Э. БАУМАНА (НАЦИОНАЛЬНЫЙ ИССЛЕДОВАТЕЛЬСКИЙ УНИВЕРСИТЕТ)"
Бюджет
Средства фондов поддержки научной и (или) научно-технической деятельности: 1 500 000 ₽
Похожие документы
Исследование влияния диффузионных процессов в AlAs/GaAs резонансно-туннельных гетероструктурах на электрические характеристики и надежность устройств для нелинейных преобразований частоты радиосигналов на их основе
0.921
НИОКТР
Исследование физических основ надежности резонансно-туннельных диодов на основе наноразмерных AlAs/GaAs- и AlN/GaN-гетероструктур
0.914
ИКРБС
Исследование влияния спейсерных слоёв и вклада технологического разброса их толщин в распределения тока вольт-амперной характеристики нелинейного элемента и электрических характеристик нелинейных преобразователей на его основе
0.910
ИКРБС
Разработка стационарной модели токопереноса в резонансно-туннельных структурах и теоретические исследования параметров элементов эквивалентной схемы резонансно-туннельных диодов
0.908
ИКРБС
Исследование физических процессов деградации в наноразмерных резонансно-туннельных AlAs/GaAs гетероструктурах. Этап 1
0.908
ИКРБС
Разработка способа оптимизации температурной зависимости электрофизических параметров гетероструктуры GaAs-AlGaAs посредством управления параметрами контактного n+-слоя и высокоомной области. Изготовление резаных пластин поликристаллического нелегированного GaAs толщиной 1500-2000 мкм из исходных слитков арсенида галлия для проведения процессов эпитаксии. Оптимизация величины удельной емкости структур варьированием параметров эпитаксиального процесса. Разработка технологического маршрута пассивации боковой поверхности меза-канавок, сформированных на гетероструктурах GaAs-AlGaAs с использованием метода атомно-слоевого осаждения.(Промежуточный)
0.901
ИКРБС
Исследование деградационных процессов в резонансно-туннельных диодах на основе наноразмерных AlAs/GaAs и AlN/GaN гетероструктур в результате воздействия температурного фактора
0.899
ИКРБС
Разработка базовой конструкции гетероструктуры GaAs-AlGaAs для высокотемпературных применений. Изготовление резаных пластин монокристаллического легированного GaAs толщиной 480-520 мкм из исходных слитков арсенида галлия для проведения процессов эпитаксии. Доработка метода комплексного легирования примесями эпитаксиальных слоев в системе GaAs-AlGaAs применительно к высокотемпературным требованиям. Разработка технологических основ формирования высокоомной p-i-n-области с заданным профилем распределения концентрации носителей применительно к высоко-температурным требованиям. Оптимизация режимов нанесения пассивирующих покрытий на поверхность гетероструктур GaAs-AlGaAs методом атомно-слоевого осаждения. (Промежуточный)
0.894
ИКРБС
Физико-химические основы базовых элементов перспективных систем технического зрения инфракрасного диапазона спектра
0.893
ИКРБС
Исследование кинетики спектральных характеристик токового шума элементов и узлов МИС СВЧ в результате действия перепадов температуры и ИИ. Этап 4
0.893
ИКРБС