Процессы инициирования форвакуумным плазменным источником электронов пучково-плазменного разряда в диэлектрическом сосуде для осаждения алмазоподобных покрытий на его внутренней поверхности

Проект направлен на изучение пучково-плазменного разряда (ППР), генерируемого в ранее не исследованных условиях – при инжекции непрерывного электронного пучка с током в 10-100 мА и энергией 1-10 кэВ внутрь цилиндрического диэлектрического сосуда через горлышко при давлении газа форвакуумного диапазона (1-15 Па), применительно к использованию такого разряда для осаждения защитных аморфных гидрогенизированных (a-C:H) алмазоподобных покрытий на внутреннюю поверхность этого сосуда. Возможность эффективной генерации ППР в диэлектрическом сосуде обусловлена использованием форвакуумного плазменного источника электронов, позволяющего компенсировать вносимый заряд за счет пучковой плазмы. Преимущество метода по сравнению с широко используемыми ВЧ- и микроволновыми разрядами состоит в простоте, более высокой эффективности передачи энергии газу, а также в локализации области энерговыделения. При этом, будет наблюдаться двойной эффект от применения электронного пучка: генерация ППР и создание ускоряющего ионы потенциала на диэлектрике. Проектом предусмотрено как исследование физических процессов и особенностей, характерных для генерации ППР в упомянутых условиях, так и изучение возможности применения такого разряда для решения актуальной прикладной проблемы – осаждения защитных алмазоподобных покрытий на внутренней поверхности стеклянных или пластиковых сосудов с целью улучшения потребительских свойств их поверхности.