Кристаллизация нанотолщинных пленок висмутсодержащих феррит-гранатов под защитным слоем Bi2O3

Фундаментальной научной задачей, решаемой в рамках данного проекта, является разработка новой модификации двухэтапной технологии кристаллизационного отжига нанотолщинных (толщины от 1 до 100 нм) аморфных пленок висмутсодержащих феррит-гранатов. Технология предполагает, что на первом этапе технологической цепочки методом магнетронного радиочастотного распыления, золь-гель методом, методом импульсного лазерного осаждения или другими методами на поверхности подложки из гадолиний-галлиевого граната, кремния, кремния с промежуточным подслоем SiO2 или на стеклянной подложке создается аморфная пленка номинального состава (BiY)3Fe5O12 , (BiDy)3(FeGa)5O12 или любого другого висмут-содержащего феррит-граната. Мы полагаем , что предлагаемая технологическая процедура обеспечит существенное увеличение содержания висмута в кристаллизованной пленке при толщинах пленок менее 100 нм, причем наиболее эффективной указанная технология будет при толщинах пленок менее 10 нм.