Влияние параметров процессов реакционного испарения Al в анодной дуге и осаждения с ионным сопровождением на характеристики синтезируемых Al2O3 покрытий

Проект направлен на решение фундаментальной проблемы высокоскоростного (~10 мкм/ч) нанесения нанокристаллических покрытий со структурой корунда (alfa-Al2O3) значительной толщины (вплоть до 10 мкм) при пониженной температуре (менее 600 С). Актуальность проблемы обусловлена потребностью в покрытиях, обладающих высокими механическими свойствами (твердость, износостойкость), термической стабильностью, оптической прозрачностью, высокой теплопроводностью, хорошими электроизоляционными свойствами, и реализации простых, надежных, недорогих и производительных методов их получения. Научная значимость решения проблемы заключается в проведении систематических исследований по определению условий в плазме и на поверхности растущего покрытия, которые обеспечивают высокоскоростное формирование alfa-Al2O3. До настоящего времени таких комплексных исследований не проводилось, что обусловлено сложностью проблемы и ограниченными возможностями управления параметрами процесса осаждения покрытия при использовании существующих методов нанесения alfa-Al2O3 покрытий. В результате выполнения проекта будут определены условия низкотемпературного нанесения со скоростью свыше ~10 мкм/ч методом реакционного анодного испарения алюминия в дуге низкого давления нанокристаллических alfa-Al2O3 покрытий с низким уровнем внутренних напряжений, обеспечивающем адгезионную прочность при толщине покрытия вплоть до 10 мкм, и создан прототип напылительного устройства с повышенной производительностью.