Способ получения тонкопленочного анода

Способ получения тонкопленочного анода предназначен повысить циклическую стабильность анода с сохранением его высокой удельной ёмкости и монокристаллической бездефектной структуры. В качестве основы выбирают токоснимающую медную фольгу с шероховатой поверхностью, которую помещают в камеру для нанесения тонких пленок методом атомно-слоевого осаждения и сушат в вакууме в течении 1 – 3 часа. Далее при температуре 150 – 250 0С методом атомно-слоевого осаждения проводят процесс нанесения одного атомного слоя оксида олова (IV) с использованием тетраэтилолова. Далее проводят импульсную термическую обработку при температуре 300 – 325 0С в течении 0,05 – 0,1 секунд. Процесс повторяют до формирования толщины монокристаллического тонкопленочного анода 100 – 200 нм.