Устройство полирования подложки пучком ионов

Изобретение относится к области обработки изделий ускоренными ионами и предназначено для получения изделий с повышенными характеристиками за счет полирования поверхности пучком ионов. Технический результат – повышение производительности процесса полирования пучком ионов. Устройство полирования подложки пучком ионов содержит вакуумную камеру, установленный на вакуумной камере источник пучка ионов, вращающийся держатель подложки, размещенный внутри вакуумной камеры с углом падения ионов на поверхность подложки α от 75° до 87°, и установленную внутри вакуумной камеры напротив подложки мишень магнетронной распылительной системы. На фиг. 1 показана схема устройства полирования подложки пучком ионов с большим углом падения на ее поверхность. На фиг. 2 показана схема процесса распыления выступов на поверхности подложки пучком ионов с большим углом падения на поверхность и одновременного осаждения на нее покрытия.