«Программа для расчета схемы экспозиции при электронно-лучевой литографии с коррекцией эффекта близости» (Proximity)

Программа Proximity предназначена для расчета схем экспозиции при электронно-лучевой литографии с коррекцией эффекта близости. При выполнении электронно-лучевой литографии возникает паразитный эффект, связанный с переоблучением резиста обратно-рассеянными электронами. Данный эффект близости приводит к падению разрешения литографии и возникновению нежелательных артефактов в проявленных масках. Для компенсации эффекта близости используется метод последовательных приближений с учетом заданного радиального профиля электронного пучка. Скорректированная схема представляет собой изображение в градациях серого, которое может быть использовано в качестве схемы для выполнения электронной литографии.