Разработка и исследование перспективных материалов и наноструктур для технологии безмасочной рентгеновской нанолитографии, применимой к созданию новой компонентной базы микро- и наноэлектроники с использованием источника синхротронного излучения

Объект исследования: технология изготовления матрицы МЭМС элементов динамической маски на основе новых материалов и наноструктур с применением экспериментальных методов исследования на базе источника синхротронного излучения. Цель: реализация Исследовательской программы по разработке и исследованию перспективных материалов и наноструктур для технологии безмасочной рентгеновской нанолитографии, применимой к созданию новой компонентной базы микро- и наноэлектроники с использованием источника синхротронного излучения. Проведен широкий перечень значимых фундаментальных и прикладных научных исследований, посвященных проработке научно-методических и технологических принципов построения ключевых элементов рентгенолитографической системы на базе источника синхротронного излучения с длиной волны ниже 13,5 нм. Также разработан комплекс актуальных методик, предназначенных для исследования новых типов материалов и наноструктур с применением синхротронного излучения. C их помощью возможно исследовать функциональные свойства составных частей рентгеновского нанолитографа с целью их оптимизации и усовершенствования.