НИОКТР
№ АААА-А18-118062790016-3

Формирование ионных потоков из электронно-пучковой плазмы для обработки поверхностей в форвакуумном диапазоне давлений

25.06.2018

Актуальность обусловлена возрастающей потребностью различных отраслей промышленности в новых, а также в усовершенствовании известных методов обработки неорганических диэлектриков, полимеров, а также биополимеров, с целью модификации их поверхностных свойств. Наиболее значимым при решении проекта будет получение знаний о новом методе плазменно-пучковой обработки биосовместимых полимерных материалов. В качестве инструмента обработки в проекте планируется использовать потоки ионов из пучковой плазмы и плазмы пучково-плазменного разряда генерируемого при прохождении ускоренного электронного пучка ленточной конфигурации через газовую атмосферу при давлении 5-50 Па. Распространение электронного пучка в форвакуумной области давлений и реализация пучково-плазменного взаимодействия позволит сгенерировать пучковую плазму c плотностью 10^10-10^11 см^-3, достаточной для проведения обработки. Научная новизна проекта заключается в использовании для генерации пучковой плазмы и инициирования пучково-плазменного разряда – плазменного источника, формирующего однородный ленточный электронный пучок непосредственно в условиях форвакуумного диапазона давлений в отсутствие магнитного поля. Использование ленточного электронного пучка, формируемого источником в отсутствие магнитного поля, привлекательно для обработки больших поверхностей ионами из пучковой плазмы, поскольку обычно используемое транспортирующее магнитное поле усложняет установку и ограничивает площадь обрабатываемой поверхности.В результате выполнения проекта будут определены особенности генерации и возможности управления параметрами потоков газовых ионов из пучковой плазмы, формируемой при ионизации газа электронным пучком в форвакуумной области давлений, а также продемонстрирована успешность применения потоков газовых ионов для обработки поверхности проводящих и непроводящих материалов. Исследования подобного рода в форвакуумной области давлений проводятся впервые, и несомненно будут обладать мировой новизной.
ГРНТИ
47.29.29 Электронно-лучевые приборы
29.27.51 Применение плазмы
Ключевые слова
ГАЗОВЫЙ РАЗРЯД
ПУЧКОВАЯ ПЛАЗМА
ПЛАЗМЕННЫЙ ИСТОЧНИК ЭЛЕКТРОНОВ
ФОРВАКУУМНАЯ ОБЛАСТЬ ДАВЛЕНИЙ
ПРИМЕНЕНИЕ ПУЧКОВОЙ ПЛАЗМЫ
ПОТОКИ ЗАРЯЖЕННЫХ ЧАСТИЦ
Детали

Начало
10.06.2018
Окончание
31.12.2020
№ контракта
18-48-700015\18
Заказчик
ФЕДЕРАЛЬНОЕ ГОСУДАРСТВЕННОЕ БЮДЖЕТНОЕ УЧРЕЖДЕНИЕ "РОССИЙСКИЙ ФОНД ФУНДАМЕНТАЛЬНЫХ ИССЛЕДОВАНИЙ"
Исполнитель
Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники"
Бюджет
Средства фондов поддержки научной и (или) научно-технической деятельности: 500 000 ₽
Похожие документы
Локальное ионно-плазменное травление диэлектриков, инициируемое и контролируемое электронным пучком в форвакуумном диапазоне давлений
0.926
НИОКТР
Локальное ионно-плазменное травление диэлектриков, инициируемое и контролируемое электронным пучком в форвакуумном диапазоне давлений
0.926
НИОКТР
Форвакуумный плазменный источник электронов на основе дугового разряда для электронно-лучевой и ионно-плазменной модификации протяженных диэлектрических изделий
0.925
НИОКТР
Электронно-лучевая и ионно-плазменная модификация электроизоляционных и диэлектрических конструкционных материалов импульсным форвакуумным плазменным источником электронов на основе дугового разряда
0.923
НИОКТР
Особенности эмиссии электронов из плазмы и формирования электронных пучков в области повышенных давлений форвакуумного диапазона для пучково-плазменной модификации материалов
0.922
НИОКТР
Генерация и исследование пучковой и газоразрядной плазмы для модификации материалов и электрореактивного движения.
0.921
Диссертация
Формирование ионных потоков из электронно-пучковой плазмы для обработки поверхностей в форвакуумном диапазоне давлений
0.918
ИКРБС
Разработка и исследование численной модели широкоапертурного плазменно-пучкового источника низкоэнергетичных ионов для технологии прецизионного атомно-слоевого травления поверхности материалов наноэлектроники.
0.917
НИОКТР
Форвакуумный плазменный источник широкоапертурного пучка электронов на основе разрядной системы планарного магнетрона для модификации диэлектрических материалов
0.916
НИОКТР
Форвакуумный плазменный источник широкоапертурного пучка электронов на основе разрядной системы планарного магнетрона для модификации диэлектрических материалов
0.916
НИОКТР