Численное и экспериментальное исследование высокочастотной плазмы пониженного давления для модификации поверхностей функциональных материалов

Высокочастотная (ВЧ) плазма пониженного давления (13.3-133 Па) используется как инструмент для модификации различных материалов (диэлектриков, проводников, тонких пленок и др.) с целью комплексного улучшения их свойств, в том числе на уровне нанослоев. Целью проекта является построение и исследование математических моделей для нелинейных процессов, происходящих в ВЧ-плазме пониженного давления при взаимодействии с образцом. В ходе реализации настоящего проекта будут решены следующие задачи: усовершенствована гибридная нелокальная математическая модель ВЧ-плазмы пониженного давления путем учета влияния приложенного потенциала смещения и продува газа; модифицирована модель взаимодействия плазмы с образцом путем дополнения моделями слоя положительного заряда (СПЗ) и двойного слоя (ДС), создана модель процесса ВЧ-плазменного нанесения металлического покрытия на диэлектрик.