РИД
№ АААА-Г17-617013110038-3Способ повышения эффективности легирования и изменения типа проводимости аморфного гидрогенизированного кремния, слабо легированного акцепторными примесями
31.01.2017
Изобретение относится к области оптоэлектронной техники и может быть использовано для создания солнечных элементов, а также иных тонкопленочных электронных устройств, на основе легированных бором пленок аморфного гидрогенизированного кремния. Техническим результатом является повышение эффективности легирования бором в аморфном гидрогенизированном кремнии и изменение типа проводимости аморфного гидрогенизированного кремния за счет увеличения электрически активных атомов бора в аморфном гидрогенизированном кремнии. Способ изменения типа проводимости и повышения эффективности легирования бором аморфного гидрогенизированного кремния включает получение тонких пленок аморфного гидрогенизированного кремния, слабо легированных бором и обработку пленок фемтосекундными лазерными импульсами.
ГРНТИ
29.33.47 Воздействие лазерного излучения на вещество
29.19.24 Электронная структура твердых тел
29.19.22 Физика наноструктур. Низкоразмерные структуры. Мезоскопические структуры
Ключевые слова
АМОРФНЫЙ ГИДРОГЕНИЗИРОВАННЫЙ КРЕМНИЙ
СОЛНЕЧНЫЙ ЭЛЕМЕНТ
ЛЕГИРОВАНИЕ
ПРОВОДИМОСТЬ
ФЕМТОСЕКУНДНЫЙ ЛАЗЕРНЫЙ ИМПУЛЬС
Детали
НИОКТР
№ 114091140012
Тип РИД
Изобретение
Ожидается
Исполнитель
Исполнители
Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Московский государственный университет имени М.В. Ломоносова"
Заказчик
Министерство образования и науки Российской Федерации
Похожие документы
Экспериментальные исследования влияния легирования на процессы модификации структуры и изменение физических свойств пленок аморфного гидрогенизированного кремния, модифицированных фемтосекундным лазерным облучением
0.916
ИКРБС
Способ получения гетероперехода нанокристаллический кремний/аморфный гидрогенизированный кремний для солнечных элементов и солнечный элемент с таким гетеропереходом
0.915
РИД
Способ получения переизлучающих текстурированных покрытий на основе пленок аморфного гидрогенизированного кремния с нанокристаллами кремния
0.910
РИД
Способ получения аморфных пленок халькогенидных стеклообразных полупроводниов с эффектом фазовой памяти
0.904
РИД
Способ изготовления эпитаксиальной тонкоплёночной структуры германия, легированной бором
0.903
РИД
Способ легирования кремниевой пластины
0.901
РИД
Способ нанесения тонкого слоя аморфного кремния
0.899
РИД
Способ изготовления полупроводникового прибора
0.899
РИД
Изготовление экспериментальных образцов гетероструктур аморфный гидрогенизированный кремний – наномодифицированный аморфный кремний и исследование их электрических и фотоэлектрических параметров
0.895
ИКРБС
Электрохимический способ обработки монокристаллических кремниевых пластин для солнечных батарей
0.895
Промышленная инновация