РИД
№ АААА-Г20-620091590012-7СВЧ-плазмотрон
15.09.2020
Изобретение относится к плазменной технике, в частности к устройствам для генерирования плазмы с использованием внешних электромагнитных полей сверхвысокой частоты, и может быть использовано для проведения плазмохимических и тепловых технологических процессов, а также для плазменной обработки различных материалов и изделий. Технический результат - повышение надежности работы устройства счет того, что СВЧ-генератор вне зависимости от наличия или отсутствия микроволнового плазменного разряда, а также степени его согласования с питающей электромагнитной волной, работает на согласованную нагрузку. СВЧ-плазмотрон содержит СВЧ-генератор, соединенный через магистральный прямоугольный волновод с плазмотроном волноводного типа на волне Н10, который содержит прямоугольный волновод плазмотрона и диэлектрическую разрядную трубку, расположенную перпендикулярно широкой стенке этого волновода и проходящую через его середину, а также подсоединяемую к ней разрядную камеру.
ГРНТИ
68.35.71 Продукция растениеводства, ее первичная обработка и хранение
29.27.51 Применение плазмы
68.35.49 Картофель и другие клубнеплоды
68.35.29 Зерновые культуры
Ключевые слова
Плазмотрон
СВЧ
безэлектродный разряд
Детали
Тип РИД
Изобретение
Сферы применения
Для решения конкретных научно-исследовательских и народно-хозяйственных задач внедрения плазменных технологий в сельскохозяйственном производстве, микробиологии и пищевой промышленности.
Ожидается
Исполнитель
Исполнители
Федеральное государственное бюджетное научное учреждение "Всероссийский научно-исследовательский институт радиологии и агроэкологии"
Заказчик
МИНИСТЕРСТВО НАУКИ И ВЫСШЕГО ОБРАЗОВАНИЯ РОССИЙСКОЙ ФЕДЕРАЦИИ
Похожие документы
СВЧ-плазмотрон
0.981
РИД
СВЧ-плазмотрон и способ генерации плазмы
0.955
РИД
СВЧ-ПЛАЗМОТРОН.
0.952
Промышленная инновация
СВЧ-плазмотрон
0.941
Промышленная инновация
СВЧ-плазмотрон и способ генерации плазмы
0.938
Промышленная инновация
СВЧ-плазмотрон с подогревом распыляемого вязкого масла
0.914
РИД
Устройство СВЧ плазменного реактора с регулированием температуры косвенного нагрева подложки
0.906
РИД
Устройство СВЧ плазменного реактора с регулированием температуры косвенного нагрева подложки
0.906
РИД
Устройство СВЧ плазменного реактора с регулированием температуры косвенного нагрева подложки
0.905
РИД
Устройство СВЧ плазменной обработки
0.903
РИД