РИД
№ 622060100118-9Способ определения электрофизических характеристик легированных слоев кремниевых пластин
01.06.2022
Способ определения электрофизических характеристик легированных слоев кремниевых пластин заключается в измерение поверхностного сопротивления легированного слоя четырехзондовым методом, дополнительно осуществляют определение ИК-спектров отражения от поверхности кремниевых пластин, нахождение минимума на спектральной зависимости коэффициента отражения, вычисление по эмпирическим формулам концентрации примеси на поверхности легированного слоя и расчет глубины залегания p-n перехода
ГРНТИ
47.09.29 Полупроводниковые материалы
Ключевые слова
ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЕ МАТЕРИАЛЫ
НЕРАЗРУШАЮЩИЙ КОНТРОЛЬ ПАРАМЕТРОВ
ЛЕГИРОВАННЫЙ СЛОЙ
ИК-СПЕКТР ОТРАЖЕНИЯ
ПОВЕРХНОСТНАЯ КОНЦЕНТРАЦИЯ ПРИМЕСИ
Детали
Тип РИД
Изобретение
Сферы применения
Изобретение относится к устройствам контроля параметров полупроводниковых материалов и может быть использовано для неразрушающего определения поверхностного сопротивления легированного слоя, глубины, на которой образуется p-n переход и концентрации примеси на поверхности кремниевых пластин, как при входном контроле, так и при контроле полупроводниковых структур после технологических операций создания легированных слоев
Ожидается
Исполнитель
Исполнители
ФЕДЕРАЛЬНОЕ ГОСУДАРСТВЕННОЕ БЮДЖЕТНОЕ ОБРАЗОВАТЕЛЬНОЕ УЧРЕЖДЕНИЕ ВЫСШЕГО ОБРАЗОВАНИЯ "ОРЛОВСКИЙ ГОСУДАРСТВЕННЫЙ УНИВЕРСИТЕТ ИМЕНИ И.С. ТУРГЕНЕВА"
Похожие документы
Способ определения толщины, электропроводности, эффективной массы, коэффициентов рассеяния носителей заряда, концентрации и энергии активации легирующей примеси полупроводникового слоя
0.916
РИД
Способ измерения параметров полупроводниковых структур
0.897
РИД
Способ определения профиля распределения концентрации основных носителей заряда в полупроводниковых гетероструктурах
0.894
РИД
Способ определения концентрации электрически активной донорной примеси в поверхностных слоях кремния неразрушающим методом ультрамягкой рентгеновской эмиссионной спектроскопии
0.888
РИД
Способ определения удельного электросопротивления полупроводников с помощью инфракрасной оптики
0.885
РИД
Способ определения профиля распределения концентрации основных носителей заряда в полупроводниковых гетероструктурах
0.885
РИД
Способ изготовления полупроводниковых структур
0.882
РИД
СПОСОБ ИЗМЕРЕНИЯ ПАРАМЕТРОВ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ СТРУКТУР.
0.881
Промышленная инновация
Способ создания фоточувствительной поверхностно-барьерной структуры
0.879
РИД
Способ изготовления многослойной тонкопленочной гетероструктуры с заданной величиной удельного поверхностного сопротивления
0.876
Промышленная инновация