РИД
№ 624012605766-9Программа моделирования электронно-стимулированной термической деполимеризации резиста
26.01.2024
Программа позволяет промоделировать локальное распределение молекулярной массы полимерного резиста в ходе его термической деполимеризации при экспонировании электронным лучом в условиях повышенной температуры. Входными данными программы являются средняя длина кинетической цепи деполимеризации, исходные значения среднечисловой и средневесовой молекулярной массы резиста и распределение разрывов молекул резиста. На основе распределения разрывов моделируется константа скорости инициирования кинетической цепи, которая в дальнейшем используется при решении системы кинетических уравнений, описывающих деполимеризацию резиста. Решение системы производится методом Рунге-Кутты 4 порядка при приближении распределения молекулярной массы резиста распределением Шульца-Цимма. Программа имеет клавиатурно-файловый интерфейс ввода данных, вывод результатов моделирования производится в файлы формата .npy.
ГРНТИ
47.13.06 Технология и оборудование для производства приборов и устройств квантовой электроники
47.13.07 Технология и оборудование для производства приборов и устройств наноэлектроники
47.13.11 Технология и оборудование для производства полупроводниковых приборов и приборов микроэлектроники
Ключевые слова
электронно-стимулированная деполимеризация
термическая деполимеризация
резист
моделирование деполимеризации
Детали
НИОКТР
Тип РИД
Программа для ЭВМ
Сферы применения
Программа может быть использована для анализа процессов электронно-стимулированной деполимеризации полимеров и резистов при повышенной температуре при разработке технологий формирования элементов дифракционной оптики, оптоэлектроники и голографических элементов.
Ожидается
Исполнитель
Исполнители
Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Физико-технологический институт имени К.А.Валиева Российской академии наук
Заказчик
МИНИСТЕРСТВО НАУКИ И ВЫСШЕГО ОБРАЗОВАНИЯ РОССИЙСКОЙ ФЕДЕРАЦИИ
Похожие документы
Программа моделирования воздействия электронного пучка на полимеры при различных температурах с учетом процессов деполимеризации
0.917
РИД
Программа моделирования рассеяния электронного пучка в полимерных резистах с учетом генерации вторичных электронов
0.911
РИД
Программа моделирования термического растекания резиста с неоднородным профилем вязкости
0.909
РИД
Программа моделирования процессов экспонирования и проявления в электронно-лучевой литографии
0.891
РИД
Программа моделирования рельефа, получаемого методом сухого электронно-лучевого травления резиста
0.890
РИД
Моделирование растекания капель фотосшиваемого резиста в технологии пошагового наноимпринтинга при использовании штампов с нерегулярным рельефом
0.882
РИД
Расчетное прогнозирование релаксационных процессов функциональных полимерных наноматериалов с учетом интегрального критерия достоверности
0.882
РИД
Программа моделирования зарядки диэлектриков в условиях электронного облучения с учетом запаздывания
0.879
РИД
Компьютерное моделирование явлений электроформовки и резистивного переключения в мемристивной структуре на основе стабилизированного диоксида циркония
0.876
РИД
Программа для ЭВМ «Программа виртуального испытательного стенда для моделирования полимеризации и остаточных деформаций деталей из композиционных материалов с термореактивной матрицей для решателя ABAQUS»
0.875
РИД