Разработка методики, программного обеспечения и модернизация технологического оборудования с целью постановки процесса изготовления фотошаблонов размером 7 дюймов, используемых в технологии производства устройств нано- и микросистемной техники

Проведены разработка методики, программного обеспечения и модернизация технологического оборудования с целью постановки процесса изготовления фотошаблонов размером 178 мм, используемых в технологии производства устройств нано- и микросистемной техники. Работа выполняется в целях развития производственной базы научно-исследовательской лаборатории изготовления фотошаблонов при НИУ «МИЭТ» (НИЛ ФШ). Основными видами деятельности НИЛ ФШ являются исследование и разработка технологических процессов формирования топологического рисунка интегральных схем в маскирующем слое фотошаблонов методами лазерной и электронно-лучевой литографии, включая физико-химические процессы обработки экспонированных пластин и процессы аттестации на соответствие проектным данным. Модернизация технологического оборудования отмывки фотошаблона бесконтактным методом позволит провести ориентацию производства интегральных схем на проектные нормы 180 нм, тем самым поддержать передовые предприятия электронной промышленности, нуждающихся в фотошаблонах соответствующего уровня.