ИКРБС
№ АААА-Б16-216102850023-6

Исследования конструктивно-технологических принципов обработки подложек полуизолирующего карбида кремния диаметром до 100 мм и эпитаксиального роста AlInGaN наногетероструктур для мощных СВЧ-транзисторов и МИС для высокоскоростных беспроводных сетей четвертого поколения. Апробация технологии обработки подложек карбида кремния

23.06.2016

Исследованы принципы обработки подложек полуизолирующего карбида кремния, конструкция и технология изготовления транзисторных наногетероструктур, транзисторов и микросхем на основе нитрида галлия. Цель исследования - разработка новейших принципов обработки подложек полуизолирующего карбида кремния диаметром до 100 мм для последующего изготовления транзисторных AlInGaN наногетероструктур и сверхвысокочастотных (СВЧ) транзисторов и монолитных интегральных схем (МИС), позволяющих увеличить число СВЧ-транзисторов и МИС, изготавливаемых в одном технологическом процессе, по сравнению с используемыми в настоящее время подложками карбида кремния. На четвертом этапе работы скорректированы режимы обработки подложек полуизолирующего карбида кремния по результатам испытаний подложек и экспериментальных исследований макетов транзисторных наногетероструктур; созданы экспериментальные образцы подложек для изготовления транзисторных наногетероструктур; разработаны технологии эпитаксиального выращивания транзисторных наногетероструктур на подложках карбида; изготовлены экспериментальные образцы транзисторных AlInGaN наногетероструктур на подложках карбида кремния; разработаны программа и методики исследовательских испытаний экспериментальных образцов транзисторных AlInGaN наногетероструктур; проведены испытания экспериментальных образцов транзисторных AlInGaN наногетероструктур; подготовлена эскизная конструкторская документация на изготовление СВЧ-транзисторов и МИС, комплекты фотошаблонов; подготовлена лабораторная технологическая документация на СВЧ-транзисторы и МИС; разработаны программа и методики исследовательских испытаний экспериментальных образцов СВЧ-транзисторов и МИС. Информация о проводимых работах расположена в сети Интернет по адресу: http://www.ntcm-ras.ru/14.607.21.0003.html.
ГРНТИ
47.13.07 Технология и оборудование для производства приборов и устройств наноэлектроники
Ключевые слова
ТРАНЗИСТОР
ПОДЛОЖКА КАРБИДА КРЕМНИЯ
LTE
СВЧ ЭЛЕКТРОНИКА
ШИРОКОЗОННЫЕ ПОЛУПРОВОДНИКИ
НИТРИД ГАЛЛИЯ
МОС-ГИДРИДНАЯ ЭПИТАКСИЯ
ПОСТРОСТОВАЯ ТЕХНОЛОГИЯ
Детали

НИОКТР
№ 114120870037
Заказчик
Министерство образования и науки Российской Федерации
Исполнитель
Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Научно-технологический центр микроэлектроники и субмикронных гетероструктур Российской академии наук
Похожие документы
Исследования конструктивно-технологических принципов обработки подложек полуизолирующего карбида кремния диаметром до 100 мм и эпитаксиального роста AlInGaN наногетероструктур для мощных СВЧ транзисторов и МИС для высокоскоростных беспроводных сетей четвертого поколения.
0.981
ИКРБС
Исследование конструктивно-технологических принципов обработки подложек полуизолирующего карбида кремния диаметром до 100 мм и эпитаксиального роста AlInGaN наногетероструктур для мощных СВЧ-транзисторов и МИС для высокоскоростных беспроводных сетей четвертого поколения
0.978
ИКРБС
Разработка и исследование технологии изготовления мощных СВЧ транзисторов и МИС на основе AlInGaN наногетероструктур на подложках полуизолирующего карбида кремния диаметром до 100 мм
0.943
ИКРБС
Освоение технологии обработки монокристаллов карбида кремния диаметром до 150 мм
0.935
ИКРБС
Исследование комплекса технологических проблем и поиск путей создания СВЧ элементной базы на основе наногетероструктур на подложках карбида кремния, работающей с высокой отдаваемой мощностью
0.934
ИКРБС
Разработка технологического процесса формирования зародышевого слоя AlN на подложке кубического карбида кремния на кремнии (3С-SiC/Si). Изготовление экспериментальных образцов гетероэпитаксиальных структур AlN на подложке кубического карбида кремния на кремнии (3С-SiC/Si). Проведение испытаний экспериментальных образцов гетероэпитаксиальных структур AlN на подложке кубического карбида кремния на кремнии (3С-SiC/Si).
0.931
ИКРБС
Освоение технологии синтеза монокристаллов карбида кремния диаметром до 100 мм 4Н политипа из исходного высокочистого порошка карбида кремния методом высокотемпературной сублимации
0.929
ИКРБС
Исследование структуры и свойств функциональных материалов для разработки устройств оперирования Большими данными (Big Data). Этап 1 (промежуточный)
0.926
ИКРБС
Исследование и разработка технологии изготовления сверхвысокочастотных монолитных интегральных схем на основе гетероструктур InAlN/GaN для изделий космического применения по теме: ИЗГОТОВЛЕНИЕ МАКЕТОВ, ПРОВЕДЕНИЕ ИССЛЕДОВАТЕЛЬСКИХ ИСПЫТАНИЙ (промежуточный, этап 2)
0.925
ИКРБС
Выбор направления исследований
0.925
ИКРБС