ИКРБС
№ АААА-Б20-220061190021-0Изучение механизмов формирования границ раздела металл(диэлектрик)/n-In0.52Al0.48As для создания приборных СВЧ-фотодиодов с барьером Шоттки
29.03.2020
Тройное соединение InxAl(1-x)As является перспективными материалом для создания приборных транзисторов с высокой подвижностью электронов, СВЧ-фотодекторов и ряда других приборов. В частности, на основе гетероэпитаксиальных меза-структур In0.52Al0.48As/In0.53Ga0.47As/InP изготавливаются СВЧ-фотодиоды с барьером Шоттки, используемые в качестве быстрых детекторов в аналоговых волоконно-оптических линиях в спектральном диапазоне 1.55 мкм. Параметры этих приборов определяются характеристиками границ раздела металл/InAlAs и диэлектрик/InAlAs(InGaAs). В рамках данного проекта проведены комплексные исследования, направленные на установление взаимосвязи между морфологией, химическим составом поверхности InAlAs, структурой границы раздела Ti/InAlAs и электрофизическими характеристиками Au/Ti/InAlAs/InP барьеров Шоттки. Другая часть работы посвящена изучению возможности пассивации поверхности InAlAs сверхтонкими анодными слоями, а также изучению электронных свойств границ раздела диэлектрик/InAlAs.Полученные в ходе выполнения проекта новые научные результаты позволяют установить надежные механизмы формирования границ раздела металл(диэлектрик)/InAlAs с предельными параметрами и могут быть применены для совершенствования технологии изготовления приборных СВЧ-фотодиодов (фотодетекторов) на основе InAlAs/InGaAs/InP гетероэпитаксиальных структур с Au/Pt/Ti/InAlAs барьером Шоттки и защитными пассивирующими диэлектрическими слоями, а также других устройств, в которых присутствуют границы раздела металл(диэлектрик)/InAlAs.
ГРНТИ
29.19.16 Физика тонких пленок. Поверхности и границы раздела
29.19.31 Полупроводники
Ключевые слова
БАРЬЕР ШОТТКИ
IN0.52AL0.48AS
ДИЭЛЕКТРИК
ПАССИВАЦИЯ
ОТЖИГ
Детали
Заказчик
ФЕДЕРАЛЬНОЕ ГОСУДАРСТВЕННОЕ БЮДЖЕТНОЕ УЧРЕЖДЕНИЕ "РОССИЙСКИЙ ФОНД ФУНДАМЕНТАЛЬНЫХ ИССЛЕДОВАНИЙ"
Исполнитель
Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова Сибирского отделения Российской академии наук
Похожие документы
Изучение механизмов формирования границ раздела металл(диэлектрик)/n-In0.52Al0.48As для создания приборных СВЧ-фотодиодов с барьером Шоттки
0.996
НИОКТР
Физика границ раздела в наноструктурах на основе полупроводников типа А2В6, А3В5 и других конденсированных сред
0.940
ИКРБС
Физика границ раздела в наноструктурах на основе полупроводников типа А2В6, А3В5 и других конденсированных сред
0.927
ИКРБС
Физика границ раздела в наноструктурах на основе полупроводников типа А2В6, А3В5 и других конденсированных сред
0.922
ИКРБС
Физика границ раздела в наноструктурах на основе полупроводников типа А2В6, А3В5 и других конденсированных сред
0.920
НИОКТР
ФИЗИКА ГРАНИЦ РАЗДЕЛА В НАНОСТРУКТУРАХ НА ОСНОВЕ ПОЛУПРОВОДНИКОВ ТИПА А2В6, А3В5 И ДРУГИХ КОНДЕНСИРОВАННЫХ СРЕД
0.912
ИКРБС
Разработка научных основ эпитаксии наногетероструктур AIIIBV для нового поколения ИК-фотоприемных устройств, в том числе и на подложках кремния
0.912
ИКРБС
Развитие технологии формирования и исследование наноструктур и новых компонентов наноэлектроники на основе полупроводниковых, металлических и сверхпроводниковых слоев
0.909
ИКРБС
Фундаментальные исследования эпитаксиальных гетероструктур для СВЧ микро и наноэлектроники
0.909
НИОКТР
Гибридные III-N / Si3N4 гетероструктуры, полученные в едином процессе газофазной эпитаксии. Изучение механизма формирования интерфейса и свойств выращенных структур
0.908
НИОКТР