ИКРБС
№ 221051300092-3

Функциональные материалы, наноматериалы и технологии по теме: Фундаментальные основы сольвотермального метода синтеза эпитаксиальных пленок диоксида ванадия с переходом диэлектрик-металл (заключительный)

01.04.2021

Проект посвящен разработке и исследованию фундаментальных основ нового сольвотермального метода получения эпитаксиальных пленок диоксида ванадия. Проведен поиск прекурсоров для получения однофазных порошков диоксида ванадия в сольвотермальных условиях, изучалось влияние параметров синтеза на кинетику роста пленок, определялись условия получения эпитаксиальных пленок на монокристаллических подложках и способы рекристаллизации пленок для улучшения электрофизических и оптических характеристик. В результате выполнения проекта разработаны условия получения объемных 3D самоорганизованных структур из кристаллитов VO2, построена модель их эпитаксиального роста на поверхности сапфировых монокристаллических подложек, исследованы условия отжига пленок диоксида ванадия для получения рекордных характеристик перехода полупроводник-металл, показана способность полученных материалов к управлению амплитудой ТГц-излучения и продемонстрирована возможность модификации полученной методики для синтеза равномерных легированных пленок с температурой перехода ПП-М приближенной к комнатной.
ГРНТИ
31.15.19 Химия твердого тела
31.17.15 Неорганическая химия
31.17.29 Комплексные соединения
Ключевые слова
фотонный материал
диоксид ванадия
сольвотермальный синтез
переход диэлектрик-металл
Детали

Заказчик
ФЕДЕРАЛЬНОЕ ГОСУДАРСТВЕННОЕ БЮДЖЕТНОЕ УЧРЕЖДЕНИЕ "РОССИЙСКИЙ ФОНД ФУНДАМЕНТАЛЬНЫХ ИССЛЕДОВАНИЙ"
Исполнитель
Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Московский государственный университет имени М.В. Ломоносова"
Бюджет
Средства фондов поддержки научной и (или) научно-технической деятельности: 2 100 000 ₽
Похожие документы
Фундаментальные основы сольвотермального метода синтеза эпитаксиальных пленок диоксида ванадия с переходом диэлектрик-металл
0.975
НИОКТР
Функциональные материалы, наноматериалы и технологии по теме: Исследование процесса химического осаждения тонкопленочных материалов на основе диоксида ванадия (заключительный)
0.941
ИКРБС
Разработка метода пирогидролитического осаждения диоксида ванадия из прекурсоров бета-дикетонатов ванадила
0.928
ИКРБС
Исследование методов получения образцов тонкопленочных материалов на основе диоксида ванадия методом химического газофазного осаждения, анализ полученных образцов
0.927
НИОКТР
Энергоэффективность и энергосбережение
0.927
ИКРБС
Методы и технологии выращивания высококачественных пленок
0.927
НИОКТР
Способ получения тонких пленок диоксида ванадия, легированного вольфрамом
0.921
РИД
Исследование процесса химического осаждения тонкопленочных материалов на основе диоксида ванадия
0.920
НИОКТР
Исследование влияния материала подложки на структуру функциональных тонких пленок диоксида ванадия, полученных при помощи реактивного магнетронного распыления для применения в современных ИК-датчиках и СВЧ-переключателях
0.918
ИКРБС
Доработка технологии осаждения пленок диоксида ванадия различной плотности покрытия и толщины методом гидротермальной обработки и последующей термообработки. Исследование состава, структуры и свойств полученных покрытий VO2. Анализ электрических и тестирование оптических свойств(в диапазоне ТГц излучения) полученных покрытий. Разработка оптимальной архитектуры одиночного неохлаждаемого элемента на основе диоксида ванадия с помощью математического моделирования. (промежуточный)
0.918
ИКРБС