ИКРБС
№ 223021300022-1Разработка конструктивных решений установки и обоснование основных проектировочных решений. Разработка источника плазмы для PEALD процессов. Изготовление опытных образцов элементов газовой системы. Разработка стенда для испытания сборки газовой линии. Разработка программы и методики проведения испытаний газовой системы. Испытания элементов газовой системы на стенде. Изготовление базовых узлов установки атомно-слоевого осаждения. Сборка и испытание базовых узлов установки атомно-слоевого осаждения
24.05.2022
Объект исследования – процессы атомно-слоевого осаждения тонких пленок металлов и соединений.
Цель работы - Повышение однородности и скорости атомно-слоевого осаждения функциональных пленок и покрытий при помощи газовой системы, обеспечивающей сверхбыструю доставку и смену реагентов в зоне реакции, а также сверхбыстрое измерение и регулирование давления, расхода газов и температуры и локализацию наносимых слоев с использованием стимулирования ультрафиолетом.
Основные результаты - разработаны конструктивные решения установки атомно-слоевого осаждения и обоснованы основные проектировочные решения, разработаны и изготовлены источники плазмы для PEALD процессов, разработаны и изготовлены опытные образцы элементов газовой системы, разработан и изготовлен стенд для испытания сборки газовой линии, проведены предварительные испытания газовой системы, изготовлены базовые узлы установки атомно-слоевого осаждения, проведены их предварительные испытания.
ГРНТИ
47.13.11 Технология и оборудование для производства полупроводниковых приборов и приборов микроэлектроники
Ключевые слова
ГАЗОВАЯ СИСТЕМА
ПЬЕЗОЭЛЕКТРИЧЕСКИЙ КЛАПАН
ТОНКИЕ ПЛЕНКИ
АТОМНО-СЛОЕВОЕ ОСАЖДЕНИЕ
Детали
НИОКТР
Заказчик
ФЕДЕРАЛЬНОЕ ГОСУДАРСТВЕННОЕ БЮДЖЕТНОЕ УЧРЕЖДЕНИЕ "ФОНД СОДЕЙСТВИЯ РАЗВИТИЮ МАЛЫХ ФОРМ ПРЕДПРИЯТИЙ В НАУЧНО-ТЕХНИЧЕСКОЙ СФЕРЕ"
Исполнитель
Общество с ограниченной ответственностью "Микродатчик"
Бюджет
Средства фондов поддержки научной и (или) научно-технической деятельности: 10 000 000 ₽
Похожие документы
Разработка рабочей конструкторской документации. Испытания сборки газовой линии на стенде. Разработка эскизной технологической документация на процесс атомно-слоевого осаждения. Разработка термостатированного пъедестала. Изготовление установки атомно-слоевого осаждения. Создание программы и методики проведения испытаний установки атомно-слоевого осаждения. Проведение испытаний на установке атомно-слоевого осаждения. Разработка эксплуатационной документации. Доработка рабочей конструкторской документации по результатам испытаний.
0.965
ИКРБС
Разработка и испытание прототипа технологической платформы атомно-слоевого осаждения
0.924
НИОКТР
Проектирование 3D моделей отдельных узлов прототипа технологической платформы атомно-слоевого осаждения в САПР, объединение отдельных моделей в одно целое. Компьютерное моделирование процессов теплопереноса и молекулярного течения в реакционной зоне. Разработка эскизной конструкторской документации на прототип технологической платформы атомно-слоевого осаждения
0.924
ИКРБС
Разработка и испытание прототипа технологической платформы атомно-слоевого осаждения (заключительный)
0.902
ИКРБС
Этап №1 "Разработка установки одностадийного аддитивного формирования барьерных контактов методами ALD/CVD с лазерной импульсной локальной активацией на поверхности подложек. Отработка на прототипе методики формирования островковых пленок металлов на различных подложках. Подготовка комплектов эскизной конструкторской и технологической документации. Проектирование полупроводниковой структуры. Проведение литографических операций и подбор режимов по формированию омических контактов. Отработка режимов осаждения толстых пленок диэлектрика Si3N4 плазмохимическим методом. Отработка режимов и проведение литографичеких операций по формированию межсоединений на изолирующем диэлектрике. Исследование морфологии поверхности и стехиометрии состава пленок традиционными методами, измерение их электрофизических характеристик." (промежуточный)
0.901
ИКРБС
Исследование и разработка технологических процессов атомно-слоевого осаждения с использованием разрабатываемых в РФ материалов для современных технологий микроэлектроники
0.900
НИОКТР
Теоретические исследования и подготовка к экспериментальным исследованиям
0.900
ИКРБС
-Разработка модельного аппарата физико-технологических процессов, использующих атомарно-слоевое осаждение (ФТП АСО)при формировании структурообразующих слоев функциональных элементов микровакуумной наноэлектроники на основе массивов УНТ
0.899
НИОКТР
Разработка на основе применения газоразрядной плазмы и импульсных пучков высокоэнергетических молекул газа комплекса технологий и оборудования для синтеза на поверхности изделий покрытий из нитрида и оксида алюминия, оксида титана и других диэлектрических материалов с улучшенным спектром свойств (промежуточный, этап 2)
0.899
ИКРБС
Проектно-конструкторские работы по созданию вакуумных установок: для нанесения пористого покрытия TiN на перемещающуюся алюминиевую основу электронно-лучевым методом; для нанесения плотных оксидных покрытий на образцы алюминиевой основы электронно-лучевым методом, ассистированным плазмой. Проведение поисковых научно-исследовательских работ по созданию альтернативной технологии производства анодной фольги для оксидно-электролитических конденсаторов.
0.898
НИОКТР