НИОКТР
№ 124063000047-7

"Разработка и изготовление опытного образца установки контроля полутоновых маскирующих покрытий фотошаблонов в обеспечение производства ИС топологическими нормами 90-65 нм"

27.05.2024

Целью выполнения ОКР является разработка конструкторской документации с литерой «О» и «О1», изготовление опытного образца установки контроля полутоновых маскирующих покрытий фотошаблонов в обеспечение производства ИС с топологическими нормами 90-65 нм (далее – Установка). В ходе выполнения ОКР должны быть выполнены следующие работы: – определена длина волны излучения рабочего лазера; – разработан эскизный проект Установки; – разработана конструкторская документация (КД), технологическая документация (ТД) и эксплуатационная документация (ЭД) на Установку; – изготовлен один опытный образец Установки; – разработан технологический процесс контроля полутоновых маскирующих покрытий фотошаблонов в обеспечение производства ИС с топологическими нормами 90-65 нм; – совместно с Заказчиком проведены предварительные испытания опытного образца Установки, по результатам предварительных испытаний КД, ТД присвоена литера «О»; – совместно с Заказчиком проведены приемочные испытания опытного образца Установки, по результатам приемочных испытаний КД, ТД присвоена литера «О1». Состав Установки: а) оптико-механическое устройство (ОМУ) в составе: - объектив; - система освещения; - система фокусировки; - координатная система; - система загрузки-выгрузки фотошаблонов; б) комплекс управляющий (КУ) в составе: - стойка управления; - вычислительный комплекс, предназначенный для управления Установкой и обработки информации, на базе IBM PC или аналогичного персонального компьютера (далее – ПК), имеющий выход в локальную сеть Ethernet; в) программное обеспечение (ПО), включая систему управления. Основные технические требования к параметрам Установки: Размер фотошаблонов - 152,4х152,4 мм Толщины фотошаблонов - 6,35 мм Материал фотошаблона - Кварц Диапазон перемещения координатного стола, не менее - 152х152 мм Контроль фотошаблонов, защищенных пелликлом с высотой рамки - до 6 мм Загрузка-выгрузка фотошаблонов на координатный стол - Полуавтоматическая Тип покрытия контролируемых ФШ - Полутоновое маскирующее покрытие (MoSi) Фокусировка -Автоматическая Перемещение в зону контроля - Автоматически Наведение на контролируемый объект - Полуавтоматически Длина волны излучения рабочего лазера - уточняется на этапе разработки конструкторской документации на Установку Воспроизводимость контроля фазы, не более - 3% Воспроизводимость контроля пропускания, не более - 3% Время одного измерения, не более - 10 сек Предъявление результатов контроля - Наличие Потребляемая мощность, не более - 7 кВт
ГРНТИ
47.13.11 Технология и оборудование для производства полупроводниковых приборов и приборов микроэлектроники
Ключевые слова
Установка
Фотошаблон
Технологический процесс
Полутоновое маскирующее покрытие
Детали

Начало
22.12.2023
Окончание
31.03.2027
№ контракта
23411.4732190019.05.027
Заказчик
МИНИСТЕРСТВО ПРОМЫШЛЕННОСТИ И ТОРГОВЛИ РОССИЙСКОЙ ФЕДЕРАЦИИ
Исполнитель
Акционерное общество "Завод ПРОТОН"
Бюджет
Средства федерального бюджета: 725 000 000 ₽
Похожие документы
«Разработка и освоение в производстве установки контроля координат топологических элементов и критических размеров структур на фотошаблонах в обеспечение производства ИС с топологическими нормами 90-65 нм»
0.952
НИОКТР
«Разработка и освоение в производстве установки лазерного устранения дефектов и постановка технологического процесса устранения недопустимых дефектов на фотошаблонах в обеспечение производства ИС с топологическими нормами 90-65 нм»
0.936
НИОКТР
«Разработка и освоение в производстве установки и технологического процесса контроля топологического рисунка ФШ с технологическими нормами уровня 90-65 нм на соответствие проектным данным»
0.927
НИОКТР
«Разработка и освоение в производстве установки контроля координат топологических элементов и критических размеров структур на фотошаблонах в обеспечение производства ИС с топологическими нормами 90-65 нм»
0.922
ИКРБС
«Разработка и освоение в производстве генератора изображений и технологического процесса формирования топологических структур на фотошаблонах в обеспечение производства ИС с топологическими нормами 90-65 нм»
0.922
НИОКТР
«Разработка и освоение в производстве установки контроля координат топологических элементов и критических размеров структур на фотошаблонах в обеспечение производства ИС с топологическими нормами 90-65 нм»
0.910
ИКРБС
"Разработка и испытания опытного образца системы автоматической инспекции печатных плат. (Заключительный)"
0.903
ИКРБС
"РАЗРАБОТКА И ОСВОЕНИЕ В ПРОИЗВОДСТВЕ ГЕНЕРАТОРА ИЗОБРАЖЕНИЙ И ТЕХНОЛОГИЧЕСКОГО ПРОЦЕССА ФОРМИРОВАНИЯ ТОПОЛОГИЧЕСКИХ СТРУКТУР НА ФОТОШАБЛОНАХ В ОБЕСПЕЧЕНИЕ ПРОИЗВОДСТВА ИС С ТОПОЛОГИЧЕСКИМИ НОРМАМИ 90-65 НМ"
0.900
ИКРБС
Разработка программы и методики испытаний опытного образца установки стыковки. Проведение испытаний опытного образца установки стыковки. Доработка управляющего программного обеспечения установки стыковки по результатам испытаний. Доработка внутреннего программного обеспечения системы управления установки стыковки по результатам испытаний. Доработка опытного образца Установки по результатам испытаний. Корректировка рабочей конструкторской документации на опытный образец установки стыковки по результатам испытаний.
0.900
ИКРБС
"Разработка и техническая реализация модулей аппаратной части системы автоматической оптической инспекции, включая электронные блоки управления. Разработка и техническая реализация аппаратного комплекса в виде законченной конструкции опытного образца. Разработка программно-конфигурируемого комплекса, программное обеспечение управления контролерами. (Промежуточный)"
0.898
ИКРБС